[发明专利]等离子体分布监测装置及方法

权利要求书

1.一种等离子体分布监测装置，其特征在于，所述等离子体分布监测装置包括：

电压可调电源和多个等离子体探针，所述多个等离子体探针对称地分布在等离子刻蚀机反应室的外周；

等离子体探针包括工作端和检测端；

所述电压可调电源连接所述等离子体探针的检测端，用于给所述等离子体探针施加可变电压；所述等离子体探针的工作端伸入所述等离子刻蚀机的反应室中，用于探测所述反应室中的等离子体。

2.如权利要求1所述的等离子体分布监测装置，其特征在于，所述等离子体探针包括金属丝，所述金属丝的一端为所述等离子体探针的工作端，另一端为所述等离子体探针的检测端，靠近所述检测端的所述金属丝表面包裹有绝缘层。

3.如权利要求1所述的等离子体分布监测装置，其特征在于，所述反应室中设有用于激发等离子体的电极，所述电压可调电源与所述电极连接。

4.如权利要求1所述的等离子体分布监测装置，其特征在于，所述电压可调电源和所述等离子体探针的检测端之间连有检测电流表。

5.一种等离子体分布监测方法，其特征在于，通过如权利要求1至4中任一项所述等离子体分布监测装置进行的所述等离子体分布监测方法，包括以下步骤，：

使得各个所述等离子体探针的工作端，分别在所述反应室的对应位置处与等离子体接触；

通过所述电压可调电源，施加给各个所述等离子体探针检测端一监测电压；

通过所述监测电压，改变所述等离子体探针工作端相对于等离子体的电位，产生由所述工作端流向检测端的检测电流；

在所述检测端采集所述检测电流；

根据所述检测电流与所述监测电压的关系，确定所述反应室的各个位置处的等离子体信息。

6.如权利要求5所述的等离子体分布监测方法，其特征在于，所述等离子体信息包括等离子体密度信息、电子温度信息和等离子体电位信息。

7.如权利要求5所述的等离子体分布监测方法，其特征在于，在所述根据所述检测电流与所述监测电压的关系，确定所述反应室的各个位置处的等离子体信息步骤之前，还进行：

多次通过所述电压可调电源，施加给各个所述等离子体探针检测端不同的监测电压，通过不同的监测电压获取不同的检测电流，根据多组监测电压和检测电流确定检测电流和监测电压之间的关系。