[发明专利]用于MMIC HEMT放大器的补偿器器件在审
申请号: | 202010832291.6 | 申请日: | 2016-07-28 |
公开(公告)号: | CN112087205A | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 卢卡·皮亚宗 | 申请(专利权)人: | 华为技术有限公司 |
主分类号: | H03F1/30 | 分类号: | H03F1/30 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518129 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 mmic hemt 放大器 补偿 器件 | ||
1.一种用于偏置单片微波集成电路MMIC高电子迁移率晶体管HEMT放大器(602)的栅极的补偿器器件(100),其特征在于,所述补偿器器件(100)包括:
两个电阻器(R1、R2);
与所述两个电阻器(R1、R2)串联连接并且位于所述两个电阻器(R1、R2)之间的至少两个HEMT(Q1、Q2),其中:
选择所述电阻器(R1、R2)和所述HEMT(Q1、Q2),使得在补偿器器件(100)的操作中,至少一个第一HEMT(Q1)的偏置点在饱和区中,至少一个第二HEMT(Q2)的偏置点在欧姆区中。
2.根据权利要求1所述的补偿器器件(100),其特征在于:
所述至少两个HEMT(Q1、Q2)的阈值电压和/或跨导分别和HEMT放大器的阈值电压和/或跨导对温度和/或工艺变化的灵敏度相同。
3.根据权利要求1或2所述的补偿器器件(100),其特征在于:
所述两个电阻器(R1、R2)中的至少一个电阻器为薄膜电阻器(TFR-1、TFR-2)。
4.根据权利要求1至3任一项所述的补偿器器件(100),其特征在于:
所述两个电阻器(R1、R2)中的至少一个电阻器为台面电阻器(MESA-1、MESA-2)。
5.根据权利要求1至4任一项所述的补偿器器件(100),其特征在于:
所述至少两个HEMT(Q1、Q2)为GaAs HEMT(HEMT-1、HEMT-2)。
6.根据权利要求1至5任一项所述的补偿器器件(100),其特征在于,还包括:
与每个HEMT(Q1、Q2)的栅极连接的输入端口(VS),其优选地为焊盘(302),其中,所述输入端口(VS)还与外部栅极电源连接。
7.根据权利要求1至6任一项所述的补偿器器件(100),其特征在于,还包括:
与第一电阻器(R1)连接的接地通孔(301)。
8.根据权利要求1至6任一项所述的补偿器器件,其特征在于,还包括:
与第一电阻器(R1)连接的焊盘(401)。
9.根据权利要求7或8所述的补偿器器件(100),其特征在于,还包括:
连接在所述第一电阻器(R1)和所述至少两个HEMT(Q1、Q2)之间的输出端口(VG)。
10.一种单片微波集成电路MMIC放大器器件(600),其特征在于,包括高电子迁移率晶体管HEMT放大器(602)和权利要求1至9中任一项所述的用于偏置HEMT放大器(602)的栅极的补偿器器件(100)。
11.根据权利要求10所述的MMIC放大器器件(600),其特征在于,所述补偿器器件(100)的输入端口(VS)与栅极电源连接,所述补偿器器件(100)的输出端口(VG)与所述HEMT放大器(602)的栅极连接。
12.一种通信设备,其特征在于,包括至少一个权10和权11任一项所述的MMIC放大器器件(600)。
13.一种用于补偿提供给具有补偿器器件(100)的单片微波集成电路MMIC高电子迁移率晶体管HEMT放大器(602)的栅极电压的方法,其特征在于:
所述补偿器器件(100)包括两个电阻器(R1、R2)以及与所述两个电阻器(R1、R2)串联连接并且位于所述两个电阻器(R1、R2)之间的至少两个HEMT(Q1、Q2);
所述方法包括:将至少一个第一HEMT(Q1)的偏置点设置在饱和区中,以及将至少一个第二HEMT(Q2)的偏置点设置在欧姆区中。
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