[发明专利]一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法

权利要求书

1.一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于操作步骤如下：

（1）将透明基板（1）用清洗液、丙酮、去离子水超声清洗干净，烘干，使用紫外臭氧清洗机进行透明基板（1）的表面处理，备用；

（2）在透明基板（1）的表面涂覆光刻胶层，获得厚度均匀，无缺陷，无颗粒的光刻胶层（2），软烤备用；

（3）在光刻胶层（2）上设置掩模板（3）进行紫外曝光处理，接着进行显影处理，硬烤备用，得到图案清晰的图案光刻胶层（5）；

（4）在图案光刻胶层（5）的透明基板（1）上涂覆疏水层溶液，加热使疏水层溶液中的溶剂挥发干净，形成透明疏水层薄膜（6）；

（5）在丙酮中去除光刻胶，同时，去除附着在光刻胶表面的透明疏水层薄膜，保留附着在基板表面的透明疏水层薄膜，形成阵列图案化疏水层（7）；

（6）将光敏或热敏的液态树脂涂覆在阵列图案化疏水层（7）上，液态树脂将附着在亲水区域，在阵列图案化疏水层（7）表面自组装形成树脂微滴阵列（8）；紫外线固化或加热固化，得到微透镜阵列。

2.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，所述的基板为透明玻璃、石英玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，所述掩膜版（3）上的图案为圆斑或多边形斑或条状斑，相邻图案之间的最小间距不低于3微米。

4.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，被紫外光照射区域的光刻胶溶于显影液，未照到的区域不溶于显影液。

5.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（4）中，所述疏水层溶液由全氟（1-丁烯基乙烯醚）和全氟三丁胺按体积比1：5-40混合均匀制成。

6.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（5）中，将具有透明疏水层薄膜（6）的透明基板（1）在丙酮中浸泡去除光刻胶，同时去除附着在光刻胶表面的透明疏水层薄膜，只留下附着在透明基板（1）表面的透明疏水层薄膜。

7.根据权利要求1所述的一种基于图案化疏水层的微透镜阵列的制备方法，其特征在于：步骤（6）中，所述液态树脂为紫外固化胶NOA65、NOA81、NOA61、NOA60、NOA63、NOA68、NOA71、NOA72、NOA73、NOA74、NOA75、NOA78、NOA83H、NOA84、NOA85、聚二甲基硅氧烷中的一种。