[发明专利]磁带、磁带盒及磁记录再生装置在审

专利信息
申请号: 202010834199.3 申请日: 2020-08-18
公开(公告)号: CN112397096A 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 今井隆;片山和俊 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G11B5/706 分类号: G11B5/706;G11B5/712;G11B5/714;G11B5/78;G11B5/85
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 周欣
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 磁带 记录 再生 装置
【权利要求书】:

1.一种磁带,其具有非磁性支撑体和包含强磁性粉末的磁性层,其中,

在70℃下加热10小时前后,在50℃~100℃的范围的测定温度下的损耗角正切tanδ的变化量Δ1为0.000以上且0.012以下。

2.根据权利要求1所述的磁带,其中,在非磁性支撑体的一个表面侧具有所述磁性层,在另一个表面侧具有包含非磁性粉末的背涂层,由下述式求出的变化量Δ2为0.000以上且0.020以下,

Δ2=Δa×[Da/(Da+Db)]+Δb×[Db/(Da+Db)]

式中,

Da为所述非磁性支撑体上的所述磁性层侧部分的厚度,

Δa为所述加热前后的所述磁性层侧部分在50℃~100℃的范围的测定温度下的损耗角正切tanδ的变化量,

Db为所述非磁性支撑体上的所述背涂层侧部分的厚度,

Δb为在所述加热前后的所述背涂层侧部分在50℃~100℃的范围的测定温度下的损耗角正切tanδ的变化量。

3.根据权利要求2所述的磁带,其中,

所述磁性层侧部分的厚度Da为0.20μm以上且0.50μm以下,且

所述背涂层侧部分的厚度Db为0.20μm以上且1.50μm以下。

4.根据权利要求2所述的磁带,其中,

所述磁性层侧部分的厚度Da为0.20μm以上且1.00μm以下,且

所述背涂层侧部分的厚度Db为0.20μm以上且0.90μm以下。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的磁带,其中,在所述非磁性支撑体与所述磁性层之间具有包含非磁性粉末的非磁性层。

6.根据权利要求2至4中任一项所述的磁带,其中,

所述背涂层包含选自由无机粉末及炭黑组成的组中的一种以上的非磁性粉末。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的磁带,其中,

所述强磁性粉末为六方晶铁氧体粉末。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的磁带,其中,

所述强磁性粉末为ε-氧化铁粉末。

9.一种磁带盒,其包含权利要求1至8中任一项所述的磁带。

10.一种磁记录再生装置,其包含权利要求1至8中任一项所述的磁带和磁头。

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