[发明专利]分段式掩膜片、掩膜版、掩膜版组件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010837092.4 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN111996489B 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 钱超;杨柯 申请(专利权)人: 南京高光半导体材料有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;C23C4/12;C09J4/06;C09J11/06;C09J11/08
代理公司: 南京中律知识产权代理事务所(普通合伙) 32341 代理人: 沈振涛
地址: 210000 江苏省南京*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 段式 膜片 掩膜版 组件 及其 制作方法
【说明书】:

发明提供了一种分段式掩膜片,其为网格状结构,包括外部的框体、内部的孔体、连接部、卡接槽口、突起;框体内部通过多组连接部间隔,间隔位置为内部的孔体;至少独立地设置有一组卡接槽口、一组突起设置在框体的任一两个侧面;卡接槽口和突起结构相匹配。同时,还公开了掩膜版、掩膜版组件及其制作方法,该组件用于OLED器件蒸镀用通过改进和设计可拆卸安装时粘结剂的组份和份数,能够可拆卸地将有损坏的分段式掩膜片进行可选择地、有目的的直接更换,重组后,再将其进行二次或多次使用,降低了修复成本,提升了高精密金属掩膜版的使用良率以及工作效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种分段式掩膜片、掩膜版、掩膜版组件及其制作方法。

背景技术

目前,各类显示屏已经被广泛应用于各种便携式电子器件,比如移动通信设备、平板电脑、显示器、电子书、导航设备或者车载设备等众多领域。其中,有机发光二极管(organic light emitting diode,简称OLED)因其具有低功耗、高色彩饱和度、广视角、薄厚度以及能实现柔性化设计等优异性逐渐被应用到显示屏。

OLED显示屏生产过程中需要通过与OLED发光显示单元精度相适应的掩膜版组件将有机层蒸镀到基板上,形成OLED发光显示单元,具体是将一张张掩膜版先定位而后固定在掩膜版框架上,在完成所有的张网步骤后,开始蒸镀。最终在基板上形成对应的蒸镀膜层。

发明内容

针对上述现有的一体式支撑用金属掩膜版在高精密金属掩膜版张网后在遇到损坏或者某个区域有混色时,现有需要将整张掩膜版撕掉,成本高、浪费大等的问题,本发明将现有的一体式支撑用金属掩膜版做成分段式的,可分段张网和修复,用于针对该区域做修复,可以提升蒸镀的良率并节省使用成本,为了达到上述发明目的,本发明提供了一种分段式掩膜片、掩膜版、掩膜版组件及其制作方法。

本发明所采用的技术方案如下:

一种分段式掩膜片,所述分段式掩膜片为网格状结构,包括外部的框体、内部的孔体、连接部、卡接槽口、突起;所述框体内部通过多组连接部间隔,间隔位置为内部的孔体;至少独立地设置有一组卡接槽口、一组突起设置在框体的任一两个侧面;所述卡接槽口和突起结构相匹配。

进一步地,所述分段式掩膜片设置为规则几何形状、梯子形状,采用金属蚀刻方式制作,厚度在30-200μm,表面设置厚度1-15μm的纳米涂层;所述孔体的形状设置为包括圆形、方形、长方形、椭圆形、菱形、但不限于这些中任一种或至少两组的组合。

进一步地,所述纳米涂层,是通过静电喷涂方法将粉末熔融后喷涂在分段式掩膜片表面形成的,所述粉末为直径为1~200nm的Si3N4、直径为1~200nm的MoSi2、质量百分比(2~3):(0.1~0.5)的直径为1~200nmSi3N4和直径为1~200nmMoSi2中任一种。

本发明还提供了一种支撑用掩膜版,是采用上述中任一项分段式掩膜片,通过相邻分段式掩膜片对应的卡接槽口与突起配合的可拆卸紧密排布组成的结构。

进一步地,所述支撑用掩膜版的表面设置为平面或连续的曲面。

本发明还提供了一种OLED器件蒸镀用掩膜版组件,包括掩膜版框架、遮挡条、支撑用掩膜版、高精密掩膜版;

所述掩膜版框架内侧面背离中心方向,间隔地设置有多组开口槽,开口槽的端面设置为两层台阶状的连接槽;

所述遮挡条,设置为规则形状,可拆卸地将端部外侧面安装在一台阶的连接槽位置;

所述支撑用掩膜版,设置为上述支撑用掩膜版,可拆卸地将端部外侧面安装在另一台阶的连接槽位置;

所述高精密掩膜版,通过可拆卸方式固定安装在支撑用掩膜版上方。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京高光半导体材料有限公司,未经南京高光半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010837092.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top