[发明专利]一种受污染场地垂直阻隔系统及建设方法

权利要求书

1.一种受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，包括地下连续墙，所述地下连续墙环绕受污染场地垂直设置。

2.根据权利要求1所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，还包括高压旋喷咬合桩，所述高压旋喷咬合桩设置多个，各高压旋喷咬合桩分布于相邻地下连续墙接缝内侧及拐点阴角处。

3.根据权利要求1所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，所述地下连续墙的厚度为0.6m-1.5m。

4.根据权利要求1所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，所述地下连续墙由多个单元槽段的连续墙组成，所述地下连续墙的单元槽段长度为4m-6m。

5.根据权利要求1所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，所述地下连续墙由渗透系数小于10^-6cm/s的材料现浇而成。

6.根据权利要求5所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，所述地下连续墙由塑性混凝土或抗渗混凝土现浇而成。

7.根据权利要求2所述的受污染场地垂直阻隔系统，其特征在于，所述高压旋喷咬合桩由2-4根旋喷桩相互咬合而成，所述旋喷桩的桩径为0.5m-1.2m。

8.一种受污染场地垂直阻隔系统建设方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、确定场地受污染范围：根据场地调查评估结果确定场地受污染范围；

S2、设置导墙：根据场地利用现状及地质情况，在受污染场地范围外侧建设导墙；

S3、成槽施工：根据场地地质条件，确定隔水层顶板位置，并计算受污染场地垂直阻隔系统的成槽深度；

S4、建设地下连续墙：在成槽后的孔段依次浇筑抗渗材料；

S5、高压旋喷咬合桩施工：在相邻地下连续墙接缝内侧及拐点阴角处设置咬合旋喷桩。

9.根据权利要求8所述的受污染场地垂直阻隔系统建设方法，其特征在于，所述导墙的设置位置为在受污染场地范围外侧1m-10m处。

10.根据权利要求8所述的受污染场地垂直阻隔系统建设方法，其特征在于，所述受污染场地垂直阻隔系统的成槽深度为至污染区域下方隔水层顶板以下0.5m-3m处。