[发明专利]反射支架、反射模块和相机模块有效
申请号: | 202010838081.8 | 申请日: | 2017-09-21 |
公开(公告)号: | CN111913270B | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
发明(设计)人: | 尹永复;朴南绮;郑凤元;徐尚镐;金在京 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
主分类号: | G02B7/08 | 分类号: | G02B7/08;G02B7/10;G02B7/182;G02B13/00;G02B27/64;G03B17/17;G03B30/00;H04M1/02;H04N5/225;H04N5/232 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 王春芝;金光军 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 支架 模块 相机 | ||
1.一种反射支架,设置在壳体中,所述反射支架包括:
反射构件,用于改变入射光的路径;及
支架,所述反射构件设置在所述支架上,所述支架与所述反射构件相对固定且能够与所述反射构件一起移动,
其中,第一驱动磁体安装在所述支架的下表面,第二驱动磁体和第三驱动磁体安装在所述支架的侧表面,
其中,所述支架的所述下表面指的是在入射光的入射方向上与入射光入射的一侧相对的表面,
其中,在所述支架的后表面设置有磁体或者磁轭以用于通过磁吸引将其抵靠到所述壳体。
2.如权利要求1所述的反射支架,其中,所述支架包括倾斜的安装表面,所述反射构件安装在所述安装表面上。
3.如权利要求1所述的反射支架,其中,所述反射构件为平面镜或棱镜。
4.如权利要求1所述的反射支架,其中,所述支架的所述后表面包括用于与球构件接触的部分。
5.如权利要求1所述的反射支架,其中,所述支架的所述后表面包括作为支撑结构的凸出部或凹入部。
6.一种反射模块,包括:
反射构件,被构造为改变入射光的路径;
支架,所述反射构件设置在所述支架上;及
第一壳体,支撑所述支架,其中,所述支架被构造为相对于所述第一壳体移动,以能够实现所述反射构件相对于第一轴和第二轴的旋转,
其中,所述支架被构造为通过磁吸引被拉向所述第一壳体,
其中,所述第一轴和所述第二轴垂直于磁吸引的方向,所述第一轴和所述第二轴彼此垂直。
7.如权利要求6所述的反射模块,其中,所述支架和所述第一壳体的相面对的表面上分别设置有第一磁体,其中,所述支架通过所述第一磁体之间的磁吸引而被拉向所述第一壳体。
8.如权利要求6所述反射模块,其中,所述支架和所述第一壳体的相面对的表面中的一者设置有第一磁轭,另一者设置有第一磁体,其中,所述支架通过所述第一磁轭和所述第一磁体之间的磁吸引而被拉向所述第一壳体。
9.如权利要求6所述的反射模块,其中,所述反射模块还包括第一驱动部,产生用于使所述支架移动的驱动力。
10.如权利要求9所述的反射模块,其中,所述第一驱动部包括第一驱动磁体、第二驱动磁体和第三驱动磁体以及分别面对所述第一驱动磁体、第二驱动磁体和第三驱动磁体的第一线圈、第二线圈和第三线圈,其中,所述第一驱动磁体安装在所述支架的下表面,所述第二驱动磁体和第三驱动磁体安装在所述支架的侧表面,所述第一线圈、第二线圈和第三线圈安装在所述第一壳体,
其中,所述支架的所述下表面指的是在入射光的入射方向上与入射光入射的一侧相对的表面。
11.如权利要求10所述的反射模块,其中,所述第一线圈、第二线圈和第三线圈安装在第一基板上,并且所述第一基板安装在所述第一壳体。
12.如权利要求6所述的反射模块,其中,所述反射模块还包括安装在所述支架的侧表面的驱动磁体。
13.如权利要求12所述的反射模块,其中,所述反射模块还包括面对所述驱动磁体的驱动线圈,所述驱动线圈安装在所述第一壳体。
14.如权利要求13所述的反射模块,其中,所述反射模块还包括位置传感器,所述位置传感器设置在所述驱动线圈的内侧或外侧。
15.如权利要求6所述的反射模块,其中,所述反射模块还包括用于检测抖动的陀螺仪传感器,所述陀螺仪传感器安装在所述第一壳体。
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