[发明专利]一种硅冶炼烟气的处理方法及装置在审
申请号: | 202010838208.6 | 申请日: | 2020-08-19 |
公开(公告)号: | CN112138539A | 公开(公告)日: | 2020-12-29 |
发明(设计)人: | 石蕾;王姣;谢谦;王鈜艳;杜士帽;赵凯 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | B01D53/86 | 分类号: | B01D53/86;B01D53/78;B01D53/60;B01D53/32 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 冶炼 烟气 处理 方法 装置 | ||
1.一种硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
a、将硅冶炼烟气通入除尘装置,进行除尘处理;
b、将除尘装置处理后的烟气进行等离子体氧化,将烟气中的NO氧化为NO2;
c、将所述步骤b处理后得到的烟气送入吸收装置,从所述吸收装置的顶部加入油性吸收液,向所述的中部加入碱液,从所述吸收装置的底部通入空气,烟气在所述吸收装置中发生催化氧化反应,并分层形成两层,上层为油性吸收液,下层为含有硝酸盐和硫酸盐的水溶液。
2.根据权利要求1所述的硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,还包括步骤d,将所述下层水溶液过滤分离得到超细SiO2。
3.根据权利要求1所述的硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,将所述步骤c得到的上层油性吸收液过滤后返回所述吸收装置中。
4.根据权利要求1所述的硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,所述步骤b等离子体氧化中,脉冲电源持续时间为100-300ns,变频率为10-300Hz。
5.根据权利要求1所述的硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,所述步骤c中,所述油性吸收液包括:
30~50%的2-氯乙基苯基亚砜;
10~30%的正辛烷、环己烷或正己烷;
10~20%的正丁醇、异戊醇、正己醇;
1~5%的十六烷基三甲基溴化铵;
5~20%的去离子水;
以质量百分含量计。
6.根据权利要求1所述的硅冶炼烟气的处理方法,其特征在于,所述碱液为氨水、NaOH或KOH。
7.一种硅冶炼烟气的处理装置,其特征在于,包括除尘装置、等离子体反应器和吸收装置,所述除尘装置设置烟气进口和出口,所述等离子体反应器进口与所述除尘装置烟气出口连接,所述吸收装置中下部设置烟气进口,中上部设置碱液进口,底部设置空气进口和水相出口,下部设置油相出口,顶部设置吸收液进口和烟气出口,所述吸收装置的烟气进口与所述等离子体反应器的出口连接。
8.根据权利要求7所述的硅冶炼烟气的处理装置,其特征在于,还包括第一分离装置,所述第一分离装置的进口与所述吸收装置的水相出口连接。
9.根据权利要求7所述的硅冶炼烟气的处理装置,其特征在于,还包括第二分离装置,所述第二分离装置的进口与所述吸收装置的油相出口连接。
10.根据权利要求9所述的硅冶炼烟气的处理装置,其特征在于,所述第二分离装置的液相出口与所述吸收装置的的吸收液进口连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国恩菲工程技术有限公司,未经中国恩菲工程技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010838208.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。