[发明专利]液晶体光栅的制作方法有效
申请号: | 202010840432.9 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN111708112B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 杨镇源;赵东峰;李琨;赵恩;杜凯凯;程鑫;饶轶 | 申请(专利权)人: | 歌尔股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 关向兰 |
地址: | 261031 山东省潍*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 光栅 制作方法 | ||
本发明公开一种液晶体光栅的制作方法,包括如下步骤:提供两个基底,在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层;对所述胶层进行刻蚀,形成多个刻蚀区,并对所述配向层进行曝光,形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区;向各所述刻蚀区内填充液晶混合物,并将两个所述基底粘接,以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区,形成液晶体光栅。本发明将不同区域体光栅整合到同一块基底上,将形成有多个曝光区的基底与形成有多个刻蚀区的基底粘接即可形成液晶体光栅,无需经过多个玻璃基底拼接,避免液晶体光栅的玻璃基底边缘漏光的情况。并且,液晶体光栅的各光栅厚度可调,进而实现液晶体光栅的衍射效率的调节,工艺兼容性好、灵活性高。
技术领域
本发明涉及光学技术领域,特别涉及一种液晶体光栅的制作方法。
背景技术
液晶体光栅的衍射效率与液晶Δn(双折射率)和光栅厚度有关系,在保证液晶Δn不变的条件下,可以通过调节光栅厚度来调节其衍射效率。目前,通常采用多个玻璃基底拼接方式或喷涂方式制作液晶体光栅,其中,多个玻璃基底拼接方式是将光栅耦入区、转折区以及耦出区分别涂在多个不同的玻璃基底上,再将多个玻璃基底拼接起来,但是采用这种拼接方式制成的液晶体光栅的玻璃边缘容易漏光,降低液晶体光栅的衍射效率。喷涂方式虽然可采用一整体的玻璃基体就可完成,但是其光栅厚度不可调,光栅厚度一致,不能调节液晶体光栅的衍射效率,兼容性及灵活性差。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种液晶体光栅的制作方法,旨在解决现有的采用多个玻璃基底拼接的方式及喷涂方式制作液晶体光栅存在容易漏光及不能调节液晶体光栅衍射效率的技术问题。
为实现上述目的,本发明提出一种液晶体光栅的制作方法,所述液晶体光栅的制作方法包括如下步骤:
提供两个基底,在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层;
对所述胶层进行刻蚀,形成多个刻蚀区,并对所述配向层进行曝光,形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区;
向各所述刻蚀区内填充液晶混合物,并将两个所述基底粘接,以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区,形成液晶体光栅。
优选地,所述提供两个基底,在两个所述基底上分别铺设胶层和配向层的步骤包括:
在其中一个所述基底上旋涂与所述基底的折射率一致或基本一致的粘胶,形成所述胶层;
在另一个所述基底上旋涂、喷涂、喷墨打印或刮涂一层配向薄膜,并对所述配向薄膜进行光致配向、摩擦配向或离子束配向处理,形成所述配向层。
优选地,所述胶层的折射率与所述基底的折射率的差值范围为-0.1~0.1。
优选地,所述对所述胶层进行刻蚀,形成多个刻蚀区,并对所述配向层进行曝光,形成与所述刻蚀区数量一致的多个曝光区的步骤包括:
固化所述胶层,采用光刻或电子束刻方式对所述胶层进行刻蚀,形成多个所述刻蚀区;
采用双光束干涉曝光配掩膜版的方式对所述配向层进行曝光,形成多个所述曝光区。
优选地,所述向各所述刻蚀区内填充液晶混合物,并将两个所述基底粘接,以使多个所述刻蚀区一一对应粘接在多个所述曝光区,形成液晶体光栅的步骤包括:
将液晶混合物旋涂或灌注进各所述刻蚀区内;其中,所述液晶混合物为非可聚合液晶单体、手性剂以及溶剂混合形成的混合物;或者,所述液晶混合物为可聚合液晶单体、手性剂、引发剂、助引发剂以及溶剂混合形成的混合物;
将所述曝光区所在的所述基底通过粘胶盖合粘接在所述刻蚀区所在的所述基底上方,以使多个所述曝光区一一对应粘接在多个所述刻蚀区上方,形成所述液晶体光栅。
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