[发明专利]曲面屏和曲面屏的制造方法

权利要求书

1.一种曲面屏，其特征在于，该曲面屏内设有Lens层(6)，所述Lens层(6)的Lens覆盖在子像素的上方；所述曲面屏包括平面区(1)和曲面区(2)，所述平面区(1)内的Lens直径小于所述曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径，所述曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径从靠近平面区(1)向远离平面区(1)的方向逐渐增大。

2.根据权利要求1所述的曲面屏，其特征在于，所述Lens的中心与所述Lens覆盖的子像素的中心对齐。

3.根据权利要求1或2所述的曲面屏，其特征在于，所述曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径的取值范围为D₀～2D₀，其中，D₀为子像素的边长。

4.根据权利要求1所述的曲面屏，其特征在于，R子像素、G子像素和B子像素对应的Lens直径不同。

5.根据权利要求1所述的曲面屏，其特征在于，所述Lens为凹透镜。

6.根据权利要求1所述的曲面屏，其特征在于，所述Lens为凸透镜。

7.一种曲面屏的制造方法，其特征在于，其包括以下步骤：

S1、提供已形成阵列(3)、EL膜(4)和TFE膜层(5)的基板；

S2、在TFE膜层(5)上涂覆一层有机材料，所述有机材料经曝光-显影形成Lens层(6)，平面区(1)内的Lens直径小于曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径，曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径从靠近平面区(1)向远离平面区(1)的方向逐渐增大；

S3、在Lens层(6)上涂覆一层平坦化层(7)。

8.根据权利要求7所述的曲面屏的制造方法，其特征在于，所述有机材料的折射系数为1.3～1.9。

9.一种曲面屏的制造方法，其特征在于，其包括以下步骤：

S1、提供已形成阵列(3)和EL膜(4)的基板；

S2、在EL膜(4)上采用CVD形成第一TFE阻挡层(51)；

S3、在第一TFE阻挡层(51)上涂覆一层有机材料，所述有机材料经曝光-显影形成Lens层(6)，平面区(1)内的Lens直径小于曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径，曲面区(2)内同一颜色子像素对应的Lens直径从靠近平面区(1)向远离平面区(1)的方向逐渐增大；

S4、在Lens层(6)上涂覆一层平坦化层(7)；

S5、在平坦化层(7)上采用CVD形成第二TFE阻挡层(53)。

10.根据权利要求9所述的曲面屏的制造方法，其特征在于，所述有机材料的折射系数为1.3～1.9。