[发明专利]记录设计程序的计算机可读记录介质和设计方法在审

专利信息
申请号: 202010849044.7 申请日: 2020-08-21
公开(公告)号: CN112446127A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 穴泽俊久;今中佳彦;下川聪;大岛弘敬 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;C30B29/22;G06F17/11;G06F17/15
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高岩;候艳超
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 设计 程序 计算机 可读 介质 方法
【权利要求书】:

1.一种存储有设计程序的计算机可读记录介质,所述设计程序用于使计算机执行用于设计钙钛矿型晶体结构的组成的处理,所述设计程序包括使计算机通过使用伊辛模型或QUBO的退火方法执行基态搜索来确定下面的式2中的Ai和Bi的组合,所述式2是通过对由下面的式1表示的容差因子t的式取对数而创建的,其中log t为0或接近0,

其中,当所述钙钛矿型晶体结构的通式由ABX表示,其中,A表示阳离子,B表示阳离子,并且X表示阴离子时,所述式1中的rA、rB和rX分别表示A位处、B位处和阴离子位处的离子半径,并且满足dA-X=rA+rX和dB-X=rB+rX

所述式2中的Ai和Bi分别由下面的式3和式4表示,

所述式2、所述式3和所述式4中的n意指A1pA2q...B1rB2s...Xn中的n,其中,p+q+...=r+s+...=n,每个编号表示一个整数,所述A1pA2q...B1rB2s...Xn是当在作为所述通式的所述ABX中离子A1、A2、...和Au位于所述A位处并且离子B1、B2、...和Bv位于所述B位处时的组成式,其中,所述离子A1、A2、...和Au的组成比为p:q:...,并且所述离子B1、B2、...和Bv的组成比为r:s:...,此外,所述式3中的dAi-X和所述dA-X满足下面的式5并且所述式4中的dBi-X和所述dB-X满足下面的式6,

所述式5和所述式6中的n与所述式2至所述式4中的n相同。

2.根据权利要求1所述的存储有设计程序的计算机可读记录介质,其中,将所述A位处的离子的种类和所述B位处的离子的种类设置为一种或更多种特定离子,并且执行所述基态搜索。

3.根据权利要求2或3所述的存储有设计程序的计算机可读记录介质,其中,所述ABX由ABO3-yNy表示,其中,y表示0至3的整数。

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