[发明专利]一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置及工艺

说明书

本发明公开了一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置及工艺，包括底板，还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡块和光学膜边框，所述底板上设置内槽和外槽，所述内槽和外槽均为环形结构，所述内槽为外槽底部向下凹陷形成的凹槽，所述粘合胶为环形条状，所述粘合胶设置在内槽内，所述粘合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度，所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角外侧，所述光学膜边框安装在外槽内，所述光学膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。本发明优点是：减少了人手动贴合产生光学膜的可能性；扩大了可生产产品种类，提高了光学膜的利用率，降低了生产制造成本。

技术领域

本发明涉及掩膜版制造技术领域，具体涉及一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置及工艺。

背景技术

掩膜版又称光掩膜版、光罩(Photo mask)，由石英玻璃作为基板衬底，首先在石英玻璃 基板上镀上一层金属铬层，然后在铬层上面涂覆光阻(又称光刻胶，一种感光材料，在特定 波长光的照射下其化学性质会发生改变)，把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光阻曝 光，被曝光的区域通过光阻显影、铬层蚀刻后再形成与设计图一样的电路图形，从而成为类 似曝光后的底片的光掩膜母版。近年来国内液晶面板产业发展迅速，从中小尺寸的4.5代到 G8.5、G11等高世代，从普通a-SiTFT到柔性AMOLED，各类新型显示面板产品层出不穷，面 板行业的不断创新也带动了光掩膜版产业的发展。

目前，平板显示掩膜版生产主要集中在4.5代、6代、8.5代及10代，其类型可分为CF(彩色滤光片)用掩膜版和TFT-Array(薄膜晶体管阵列)用掩膜版，制造工艺包括光刻、显影蚀刻脱膜、检查、修复、清洗、贴膜等。需要在其表面帖附一层具有高透过率的光学膜(英文名称Pellicle)，起到阻隔灰尘、颗粒的作用，光学膜也称为防尘罩。掩膜版在使用 的过程中需要定期进行检查、清洗。由于上述TFT-Array掩膜版贴附了光学膜，必须对光学 膜进行撬除后再清洗，清洗完成后再重新贴附新的光学膜来达到产品使用要求。当人员操作不当或贴膜后膜内面、掩膜版表面出现particle等异常，都会导致贴膜失败。一旦贴膜失败， 由于光学膜边框上的粘合剂极易因外力撕扯而变形或破损，使光学膜在实际生产中只能单次 贴合，无法重复使用。此外，如果掩膜版出现Haze问题而必须进行撬膜清洗，这样也会造成 光学膜的报废。而目前光学膜的生产制造主要被日韩企业所垄断，因此每一张光学膜的价格 非常昂贵，特别是G8.5及G11两种大尺寸掩膜版光学膜，贴膜失败或者撬膜清洗都将造成严 重的经济损失。

因此，对于光学膜薄膜完好，只是贴合胶不可再利用的情况，为降低产品生产制造成本， 实现掩膜版光学膜的可重复贴合，因此，目的在于提供一种用于提高掩膜版光学膜重复利用 率的装置及掩膜版光学膜再贴合的工艺方法。

发明内容

本发明目的在于提供一种用于提高掩膜版光学膜重复利用率的装置及掩膜版光学膜再贴 合的工艺方法。

本发明通过下述技术方案实现：

一种光学膜粘合胶的半自动贴合装置，包括底板，还包括内槽、外槽、粘合胶、圆弧挡 块和光学膜边框，所述底板上设置内槽和外槽，所述内槽和外槽均为环形结构，所述内槽为 外槽底部向下凹陷形成的凹槽，所述粘合胶为环形条状，所述粘合胶设置在内槽内，所述粘 合胶的高度高于内槽的深度并且低于外槽的深度，所述圆弧挡块设置在底板上外槽的四个角 外侧，所述光学膜边框安装在外槽内，所述光学膜边框的宽度与外槽的宽度一致，所述光学 膜边框的底部与粘合胶的顶部相贴合。

现有技术是人工贴膜后膜内面、掩膜版表面出现particle等异常，经常会出现人员操作不 当而导致贴膜失败。