[发明专利]一种靶区轮廓的分析方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种靶区轮廓的分析方法，其特征在于，所述方法应用于电子设备，所述方法包括：

获取用户针对靶区勾画的靶区轮廓；

计算出所述靶区轮廓与所述靶区预设的靶区标准轮廓的重合度；

通过分析所述重合度，以对所述靶区轮廓进行评估。

2.根据权利要求1所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，计算出所述靶区轮廓与所述靶区预设的靶区标准轮廓的重合度，包括：

计算出所述靶区轮廓与所述靶区标准轮廓之间重叠部分的大小；

计算出所述大小与所述靶区轮廓的大小的比值，其中，所述比值表示所述重合度。

3.根据权利要求2所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，计算出所述靶区轮廓与所述靶区标准轮廓之间重叠部分的大小，包括：

计算出构成所述重叠部分的像素点数量，其中，所述像素点数量表示所述重叠部分的大小；

对应的，计算出所述大小与所述靶区轮廓的大小的比值，包括：

计算出所述像素点数量与构成所述靶区轮廓的像素点数量的所述比值，其中，构成所述靶区轮廓的像素点数量表示所述靶区轮廓的大小。

4.根据权利要求1所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，计算出所述靶区轮廓与所述靶区预设的靶区标准轮廓的重合度，包括：

计算出所述靶区轮廓围成的面积；

计算出所述面积与所述靶区标准轮廓围成的面积的比值，其中，所述比值表示所述重合度。

5.根据权利要求1所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，计算出所述面积与所述靶区标准轮廓围成的面积的比值，包括：

计算出所述靶区轮廓围成的第一图形与所述靶区标准轮廓围成的第二图形之间重叠部分的面积；

计算出所述面积与面积之和的比值，其中，所述面积之和为所述第一图形的面积与所述第二图形的面积的总和，所述比值表示所述重合度。

6.根据权利要求1所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，在确定出所述重合度之前，所述方法还包括：

获取专家人员针对所述靶区勾画的靶区参考轮廓；

将所述靶区参考轮廓膨胀，获得所述靶区标准轮廓。

7.根据权利要求1所述的靶区轮廓的分析方法，其特征在于，通过分析所述重合度，以对所述勾画的轮廓进行评估，包括：

利用预先设定好的网络模型分析所述重合度，以确定出所述靶区轮廓的评估分数，其中，所述评估分数越高表示所述靶区轮廓越准确，反之，则越不准确。

8.一种靶区轮廓的分析装置，其特征在于，所述装置应用于电子设备，所述装置包括：

轮廓获取模型，用于获取用户针对靶区勾画的靶区轮廓；

轮廓分析模型，用于计算出所述靶区轮廓与所述靶区预设的靶区标准轮廓的重合度；通过分析所述重合度，以对所述靶区轮廓进行评估。

9.一种电子设备，其特征在于，包括：

存储器，用于存储程序；

总线；

处理器，所述处理器通过所述总线与所述存储器连接，所述处理器用于运行所述程序，以执行如权利要求1-7任一权项所述的靶区轮廓的分析方法。

10.一种非易失计算机可读储存介质，其特征在于，存储有程序代码，当所述程序代码被计算机运行时执行如权利要求1-7任一权项所述的靶区轮廓的分析方法。