[发明专利]一种拉曼增强结构及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种拉曼增强结构，其特征在于，包括：

铜基石墨烯基底，其表面上设有若干个呈方形阵列分布的凹坑；所述凹坑为锥型结构；

金纳米颗粒层，设置在所述铜基石墨烯基底的表面以及所述凹坑内；

所述凹坑为四棱锥结构；横向和/或纵向方向上相邻的两个所述凹坑的间距为1.918μm；所述凹坑的深度为200nm；所述铜基石墨烯基底是通过在铜箔表面上沉积一层石墨烯薄膜制得；所述金纳米颗粒层的厚度为5～10nm；

所述拉曼增强结构的制备方法包括以下步骤：

取一铜基石墨烯基底；

用纳米锥型针尖以预设的周期和预设的力对铜基石墨烯基底的表面进行压痕处理，以在铜基石墨烯基底上形成若干个呈方形阵列分布的凹坑；

基于磁控溅射的方法，将金纳米粒子溅射至铜基石墨烯基底的表面，并使得金纳米粒子落入至凹坑内，以在铜基石墨烯基底的表面和凹坑内形成金纳米颗粒层，得到所述拉曼增强结构。

2.一种如权利要求1所述的拉曼增强结构在农药检测中的应用。

3.根据权利要求2所述的一种拉曼增强结构在农药检测中的应用，其特征在于，所述农药为西维因。