[发明专利]温度调节方法及装置、蒸镀设备

说明书

本公开提供一种温度调节装置，包括控制器、至少一个温度调节板；所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。本公开还提供一种温度调节方法、一种蒸镀设备。

技术领域

本公开实施例涉及蒸镀技术领域，特别涉及一种温度调节装置、一种温度调节方法、一种蒸镀设备。

背景技术

有机发光二极管(OLED，Organic Light Emitting Diode)蒸镀线采用线性蒸发源在高真空条件下移动扫描将有机材料通过喷嘴蒸镀到低温多晶硅(LTPS，Low TemperaturePoly-Silicon)上，通过高精度金属掩模板(FMM，Fine Metal Mask)形成红绿蓝器件。在生产过程中，通过调整线性蒸发源两侧的温度补偿板以改变线性蒸发源各个区域的温度梯度，从而使蒸发源的各有机腔室的均一性稳定在预定规格内。温度补偿板分为亮板和盲板，其中，亮板为具有高反射率的反射板，盲板为具有低反射率的反射板。

现有技术中，对线性蒸发源温度梯度的调整效率低、效果差。

发明内容

本公开实施例提供一种温度调节装置、一种温度调节方法、一种蒸镀设备。

第一方面，本公开实施例提供一种温度调节装置，包括控制器、至少一个温度调节板；

所述控制器用于根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定提供给所述温度调节板的控制电压；

所述温度调节板包括朝向所述蒸发源设置的反射面，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。

在一些实施例中，所述温度调节板包括第一基板、第二基板和电致变色功能层，所述第一基板和所述第二基板相对设置，所述电致变色功能层设置在所述第一基板和所述第二基板之间，所述第一基板和所述第二基板中的一者用于朝向所述蒸发源设置，至少所述第一基板和所述第二基板中用于朝向所述蒸发源设置的一者为透明基板，所述反射面形成在所述第一基板和所述第二基板中朝向所述蒸发源的一者上，所述控制电压为提供给所述第一基板和所述第二基板之间的电压，所述电致变色功能层能够随所述第一基板和所述第二基板之间的电压的变化而变化，以使得所述反射面的反射率发生变化。

在一些实施例中，所述第一基板包括第一透明导电层，所述第二基板包括第二透明导电层，所述电致变色功能层包括电致变色层、离子导体层、对电极；

所述第一透明导电层与所述第二透明导电层相对设置，所述对电极、所述离子导体层、所述电致变色层依次设置于所述第一透明导电层与所述第二透明导电层之间。

在一些实施例中，所述控制器中存储有预定映射关系，所述预定映射关系用于表征亮板盲板组合与所述温度调节板的控制电压之间的对应关系，其中，所述亮板盲板组合对应的控制电压为使所述反射面的反射率与所述亮板盲板组合的反射率相同的所述温度调节板的控制电压；

所述控制器用于根据所述映射关系和所述蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性调节所述温度调节板的控制电压。

在一些实施例中，所述温度调节装置还包括：

直流电源，所述直流电源在所述控制器的控制下向所述温度调节板提供控制电压。

第二方面，本公开实施例提供一种温度调节方法，包括：

根据蒸发源已蒸镀的膜层的厚度、和/或厚度均一性确定温度调节装置中温度调节板的控制电压，以控制所述温度调节板朝向所述蒸发源设置的反射面的反射率，进而调节所述蒸发源所在的有机腔室的温度，其中，所述温度调节装置为本公开实施例第一方面所述的温度调节装置，所述反射面的反射率能够随所述控制电压的变化而变化。