[发明专利]一种PVD真空镀膜机

说明书

本发明公开了一种PVD真空镀膜机，包括机壳，机壳从上至下依次设置有上清洁仓、工作仓和下清洁仓，上清洁仓和下清洁仓个设置有一个可移动的滑动筒壁，滑动筒壁可滑入工作仓内从而遮盖工作仓的内壁，工作仓内设置有主机头用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；工作仓的上顶和下底各设置有一圈封圈，封圈侧边设置有密封头，密封头重启后膨胀从而顶住封圈和滑动筒壁之间的空隙形成密闭的空间；上清洁仓和下清洁仓内设置有清洁部和烘干部，清洁部和烘干部对从工作仓退回至上清洁仓或下清洁仓的滑动筒壁进行清洁烘干工作。本发明能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

技术领域

本发明涉及一种PVD真空镀膜机。

背景技术

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的及其，工作原理包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

在真空镀膜过程中，由镀膜源发出的镀膜材料蒸汽被沉积到被镀元件的同时，也会部分溅射并沉积到镀膜机的内壁上，并随镀膜次数及时间的增加，越累越厚。而这些沉积物在内壁上的附着并不稳固，在元件镀膜过程中极易脱落到被镀元件上，造成被镀元件的镀膜缺陷。

按清洁周期清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物成为光学元件真空镀膜工作的重要组成部分。

发明内容

本发明针对现有技术中的不足，提供了一种PVD真空镀膜机，能够自动清理真空镀膜机的内壁，并且不影响镀膜工作，既能够保证镀膜质量，又提高了效率。

为了解决上述技术问题，本发明通过下述技术方案得以解决：一种PVD真空镀膜机，包括机壳，所述机壳从上至下依次设置有上清洁仓、工作仓和下清洁仓，所述上清洁仓和所述下清洁仓各设置有一个可移动的滑动筒壁，所述滑动筒壁可滑入所述工作仓内从而遮盖工作仓的内壁，所述工作仓内设置有主机头用于进行镀膜工作并且能够夹持多个被镀工件同时进行镀膜；所述工作仓的上顶和下底各设置有一圈封圈，所述封圈侧边设置有密封头，所述密封头重启后膨胀从而顶住封圈和滑动筒壁之间的空隙形成密闭的空间；所述上清洁仓和所述下清洁仓内设置有清洁部和烘干部，所述清洁部和所述烘干部对从工作仓退回至上清洁仓或下清洁仓的滑动筒壁进行清洁烘干工作。

上述技术方案中，所述工作仓的上顶和下底边缘设置有限位环，所述限位环配合内壁对所述滑动筒壁的移动起导向限位作用，所述限位环设置有刮面斜块，所述刮面斜块作用于滑动筒壁的内壁用于刮去其上附着的沉积物；所述封圈和所述限位环之间具有间隙，位于工作仓底部的间隙出设置有若干个漏液孔；所述封圈的内壁设置有弧壁，所述弧壁上设置有若干个导向所述漏液孔的弧形洞。

上述技术方案中，所述下清洁仓正中部设置有一根支撑柱，所述支撑柱用于支撑所述工作仓的底部；所述支撑柱设置有四个通管孔。

上述技术方案中，所述下清洁仓内设置有可活动的移动底板，所述移动底板设置有四个圆周分布的放空孔，所述移动底板固定连接至可下移至下清洁仓内的滑动筒壁的底部，所述下清洁仓内设置有若干根底板升降柱，其中一根底板升降柱设置有螺纹并且和所述移动底板螺纹配合连接，所述底板升降柱顶端穿透所述移动底板顶在所述工作仓的底部，所述下清洁仓的底部设置有第一电机，所述第一电机能够驱使所述底板升降柱正向和反向转动，从而驱使所述移动底板上移和下降。