[发明专利]一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺有效
| 申请号： | 202010855791.1 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN112062475B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 熊国祥 | 申请（专利权）人： | 郑州恒昊光学科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C09K13/08 |
| 代理公司： | 郑州立格知识产权代理有限公司 41126 | 代理人： | 田磊 |
| 地址： | 450000 河南省郑州*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高铝硅 玻璃 方型 闪点 效果 制作 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.一种高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
（1）配置高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液，搅拌均匀直至蚀刻液呈均匀一致的过饱和溶液状态，并将蚀刻液置于蚀刻淋砂装置内；
（2）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片不需蚀刻的一面用抗蚀刻油墨丝印覆盖保护；
（3）将高铝硅玻璃材质手机后壳原片需要蚀刻的一面清洗干净并风干，在干式状态下放置于蚀刻淋砂装置中进行淋砂蚀刻处理；
（4）从蚀刻淋砂装置中取出被蚀刻好的高铝硅玻璃材质手机后壳原片，再用抛光液进行抛光处理，清洗干净，最后风干或烘干即可；
所述高铝硅玻璃方型闪点效果蚀刻液由以下质量分数的原料组成：18-30%的NH4HF2、3-8%的KHF2、5-10%的NH4F、15-25%的HNO3、8-12%的H2SO4、3-6%的HCl、5-8%的MgSiF6、6-10%的BaSO4、2-6%的NaNO3、0.5-0.8%的K2SO4、0.8-1.5%的CuCl2、1.2-1.8%的CaCl2、3-8%的淀粉、1-3%麦芽糖、15-25%的H2O；
具有方型闪点效果的高铝硅玻璃形成了方型柱状微晶颗粒。
2.根据权利要求1所述的高铝硅玻璃方型闪点效果的制作工艺，其特征在于，所述步骤（3）中淋砂蚀刻处理的淋砂蚀刻时间为3-5min，淋砂液温度为18-20℃。
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