[发明专利]一种钕铁硼磁体及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202010859580.5 申请日: 2020-08-24
公开(公告)号: CN112309661A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 王鸣亮;包振宇;施益松 申请(专利权)人: 宁波奥达磁业有限公司
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F7/02;H01F41/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315200 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 钕铁硼 磁体 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钕铁硼磁材,其特征在于,包括磁材本体以及设置于所述磁材本体表面的复合涂层,所述磁材本体包含以下重量百分比的元素:Nd:17-23wt%、B:0 .5-1 .2wt%、Pr:6-10wt%、Dy:2-5wt%、Al:0.3-0.9wt%、Cu:0.1-0.2wt%,其余为Fe;所述复合涂层包括内涂层和外涂层;

所述内涂层包括Cr:7.3wt%、B:2.4wt%、Dy:4.25wt%、Gd:2.7wt%,其余均为Fe;

所述外涂层包括石墨:17.3Wt%、Nb:2 .82wt%;Ti:23wt%;SiC:6.7%;Mo:1.13wt%,其余均为Ni。

2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁材,其特征在于,所述磁材本体包含以下重量百分比的元素:Nd:17wt%、B:0 .7wt%、Pr:7wt%、Dy:3wt%、Al:0.6wt%、Cu:0.1wt%,其余为Fe。

3.根据权利要求1或2所述的钕铁硼磁材,其特征在于,所述磁材本体还包含括Co :0.1-0.15wt%。

4.权利要求1-3任一所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,包括S1、磁材本体的制备,其具体步骤包括:

S1.1、混料:

将Nd、B、Pr、Dy、Al、Cu、Fe、Co按比例配比成磁材混合粉末;

S1.2、熔炼甩带:

将磁材混合粉末在1550℃-1600℃下熔炼,将熔融液体倾倒在旋转的甩带金属棍表面,甩带得到甩带片;

S1.3、氢破磨粉:

将甩带片先用氢气破碎,再在气流磨中制成微粉;

S1.4、定向压型:

将微粉于氮气保护下均匀混粉,再后压制成型,得到坯件;

S1.5、冶金烧结:

将坯件进行烧结,在烧结温度为1010℃-1070℃的条件下烧结4-5h,保温2-3h 后冷却至900℃,进行时效处理,第一级时效温度为870℃-960℃,保温2-3h后冷却至150℃;第二级时效温度为540℃-630℃,保温7-12h后冷却至室温,得到磁材本体;

S2、内涂层的制备,其具体步骤包括:

S2.1、混料:

将Cr、B、Dy、Gd、Fe按比例配比成内涂层混合粉末;

S2.2、蒸镀:

将内涂层混合粉末放入蒸镀炉内,加热熔化、蒸发,冷却后均匀附着在磁材本体上形成金属薄膜;

S3、外涂层的制备,其具体步骤包括:

S3.1、混料:

将石墨、Nb、Ti、SiC、Mo、Ni按比例配比成外涂层混合粉末;

S3.2、球磨团聚:

对外涂层混合粉末进行研磨,并加入无水乙醇作为粘结剂进行均匀混合,制成团聚物;

B3.3、制备预置层;

将团聚物均匀涂覆在磁材本体的表面,形成预置层,置于室内阴干;

B3.4、激光熔覆

通入氩气作为保护气体,对磁材本体及团聚物进行激光熔覆,激光输出功率1 .5~2.3kW,扫描速度4~8mm/s,光斑直径3mm,氩气流量为6~8L/min,搭接率为25~35wt%,熔覆后,使用硅酸铝保温材料覆盖熔覆区域,并缓慢冷却;熔覆后,使用硅酸铝保温材料覆盖熔覆区域,并缓慢冷却。

5.根据权利要求4所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,磁材本体在步骤S1.5冶金烧结后还包括S1.6渗氮处理:将磁材本体进行打磨并浸没在无水乙醇中进行超声波清洗;干燥后放入离子渗氮炉内,渗氮处理7h。

6.根据权利要求4所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,步骤S1.2中,甩带金属辊的面线速度为3m/s。

7.根据权利要求4所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,步骤S1.2中,甩带片破碎后,加入重量比为6:2的液态抗氧化剂以及石墨。

8.根据权利要求7所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,所述液态抗氧化剂由体积比为8:92的苯并三氮唑和石油醚组成。

9.根据权利要求4所述的钕铁硼磁材的制备方法,其特征在于,步骤S3.3中,磁材本体涂覆团聚物之前,在惰性气体的保护下,用超声波清理内涂层表面的氧化层及油污。

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