[发明专利]一种大直径单晶硅放肩生长工艺有效

专利信息
申请号: 202010860262.0 申请日: 2020-08-24
公开(公告)号: CN112048761B 公开(公告)日: 2022-02-15
发明(设计)人: 李永博;王利超;尚锐刚;王永涛;崔彬;方峰 申请(专利权)人: 有研半导体硅材料股份公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B15/00;C30B15/20
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青
地址: 101300 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 直径 单晶硅 生长 工艺
【权利要求书】:

1.一种大直径单晶硅放肩生长工艺,其特征在于,放肩系统作业参数中的长度按照1mm、15mm、30mm、45mm、60mm、75mm、90mm、105mm编写,降温速率定义为放肩温度差值除以放肩长度差值;放肩初始时放肩温度SP值减少0-5,在1mm时放肩温度SP值减少1-2;在15mm时放肩温度SP值减少5-6,降温速率为0.3-0.4;在30mm时,放肩温度SP值减少10-12,降温速率为0.3-0.4;在45mm时放肩温度SP值减少20-22,降温速率为0.5-0.6;在60mm时放肩温度SP值减少31-33,降温速率为0.7-0.8;在75mm时放肩温度SP值减少50-55,降温速率为1.2-1.35;在90mm时放肩温度SP值减少69-71,降温速率为1.35-1.4;在105mm时放肩温度SP值减少90-92,降温速率为1.42-1.55。

2.根据权利要求1所述的大直径单晶硅放肩生长工艺,其特征在于,所述单晶硅的等径直径为15英寸以上,放肩长度在90-100mm。

3.根据权利要求1所述的大直径单晶硅放肩生长工艺,其特征在于,所用单晶炉为全自动单晶炉,放肩开始前,操作主界面将热场温度SP值校正成为1300,即将信号值均分为1300份。

4.根据权利要求3所述的大直径单晶硅放肩生长工艺,其特征在于,所述单晶炉适用于15英寸以上的轻掺硼合金单晶,电阻率在1-5Ω·cm。

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