[发明专利]一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜

权利要求书

1.一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：包括基材层、高韧性硬化层和高耐磨硬化层，所述高耐磨硬化层为硬化膜的表层。

2.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述基材层的一侧涂覆高韧性硬化层，另一侧涂覆高耐磨硬化层。

3.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层与高耐磨硬化层的厚度相等；所述基材层为PET薄膜或CPI薄膜，厚度为25-200μm，动态弯折次数不低于50K次，作为优选，所述基材层的厚度为50-100μm，动态弯折次数不低于150K次。

4.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层由如下重量分的各组分组成：韧性树脂50-90份、柔性单体5-20份、活性稀释剂40-60份、光引发剂3-5份、流平剂0.1-1份、有机溶剂50-80份；

所述高耐磨硬化层由如下重量分的各组分组成：耐磨树脂50-80份、光引发剂3-5份、活性稀释剂20-50份、有机溶剂50-80份、抗指纹剂0.05-1份、流平剂0.1-1份。

5.如权利要求4所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述韧性树脂为环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、有机硅改性丙烯酸酯中的一种或几种；

所述耐磨树脂为官能度为6的聚氨酯丙烯酸酯、官能度为9的聚氨酯丙烯酸酯中的一种或几种；

所述柔性单体为聚己内酯改性丙烯酸酯；

所述活性稀释剂为丙烯酸月桂酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、十二烷基乙烯基醚、甲氧基聚乙二醇(350)单丙烯酸酯中的一种或几种；

所述光发剂为α-羟基酮类、苯偶酰及其衍生物、酰基膦氧化物中的一种或几种；

所述流平剂为聚丙烯酸酯类流平剂、有机硅树脂中的一种或几种；

所述有机溶剂为丁酮、甲基异丁酮、异丙醇、丙二醇单甲醚、乙酸乙酯中的一种或几种；

所述抗指纹剂为全氟聚醚改性丙烯酸酯。

6.如权利要求5所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述韧性树脂为巴斯夫LR8765、陕西喜莱坞EA 200、沙多玛CN997、陕西喜莱坞UA320、沙多玛CN2251、沙多玛CN990、长兴6225中的一种或几种；所述耐磨树脂为W4019、W4500、长兴6145-100中的一种或几种。

7.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层和高耐磨硬化层的硬度均不低于HB，断裂伸长率均不低于1%，光学透过率均不低于86%，雾度均不高于1.5%，YI值均不高于2，厚度均为2-50μm；

所述硬化膜的铅笔硬度不低于2H，断裂伸长率不低于1%，光学透过率不低于88%，雾度不高于1.5%，YI值不高于2。

8.如权利要求7所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层和高耐磨硬化层的硬度均不低于H，断裂伸长率均不低于2.5%，光学透过率均不低于90%，雾度均不高于1%，YI值均不高于1.5，厚度均为2-20μm；

所述硬化膜的铅笔硬度不低于3H，断裂伸长率不低于2.5%，光学透过率不低于90%，雾度不高于1%，YI值不高于1.5。

9.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：由如下方法制备而成：

（1）对基材除静电后进行溶剂清洗，清洗后干燥；

（2）在干燥后的基材的一侧先涂覆高韧性硬化层，进入烘箱加热后，进行UV固化，收卷；

（3）在基材的另一侧涂覆高耐磨硬化层，进入烘箱加热后，进行UV固化，收卷，即得到耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜。

10.如权利要求9所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述步骤（1）中溶剂清洗所用的溶剂为丁酮、甲基异丁酮、异丙醇、丙二醇单甲醚、乙酸乙酯、甲苯、环己酮、环己烷中的一种或几种；

所述步骤（2）和步骤（3）中烘箱加热的条件为：烘箱温度为60~140℃，加热时间为1-5min，作为优选，烘箱温度为80-100℃；

所述步骤（2）和步骤（3）中UV固化的条件为：UV的照度：100-600mW/cm²；光量：200-1200mJ/cm²；

所述步骤（2）和步骤（3）中UV固化过程中背辊的温度为35-80℃。