[发明专利]一种等离子体放电异常的处理方法有效
申请号: | 202010861770.0 | 申请日: | 2020-08-24 |
公开(公告)号: | CN111926308B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 刘骐铭;郭艳;张春成;赵志然;李明 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52;H05H1/00 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等离子体 放电 异常 处理 方法 | ||
1.一种等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,步骤包括:
步骤S1:淀积工艺开始时,检测等离子体放电过程中输出电流Io是否超过最大电流设定值Imax,当Io>Imax时,判断放电过程中有Imax电弧发生;若IoImax,则继续比较Io是否超过电流设定值Ix,其中Ix<Imax;
步骤S2:当输出电流Io>Ix时,同时需比较输出电压Uo是否超过电压设定值Ux;当Io>Ix且Uo<Ux时,判断放电过程中有U×I电弧发生;
步骤S3:比较输出电压波动ΔU和设定值dU,当ΔU大于dU时,判断放电过程中有dU电弧发生;
还包括判断放电过程中是否发生严重短路的步骤,即:当放电过程中有Imax电弧、U×I电弧发生时,自动统计其次数;当一定时间内电弧计数超过设定值Ax,即电弧增长率AAx,进行报警处理,工艺停止;若AAx,程序自动延长淀积工艺时间;
所述延长淀积工艺时间通过下式获取:
修正系数ξ*(Imax电弧计数*T1+U×I电弧计数*T2+dU电弧计数*T3)*(Ton+Toff)/Ton
上式中修正系数ξ取值0.8-1.2,Ton表示电源脉冲开启时间,Toff表示电源脉冲关闭时间;T1为Imax电弧时间,T2为U×I电弧时间、T3为dU电弧时间。
2.根据权利要求1所述的等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,所述Imax设定值范围35-80A。
3.根据权利要求1所述的等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,所述Ix设定值范围30-65A。
4.根据权利要求1所述的等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,所述Ux设定值范围80-200V。
5.根据权利要求1所述的等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,所述dU设定值范围15%U-45%U。
6.根据权利要求1所述的等离子体放电异常的处理方法,其特征在于,抑制处理Imax电弧时间T1、U×I电弧时间T2、dU电弧时间T3均为30-200us。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南红太阳光电科技有限公司,未经湖南红太阳光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010861770.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电气工程定位安装装置
- 下一篇:一种逃逸氨激光检测分析仪
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的