[发明专利]镜面显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种镜面显示装置制作方法，其特征在于，包括：

依次层叠制作阵列基板、发光器件层、封装层、金属反射层；

在所述金属反射层背离所述封装层的一侧制作预设厚度的光学膜层，并对所述光学膜层采用掩模工艺图案化，通过干法刻蚀使所述光学膜层形成多个开孔，使所述光学膜层的开口与所述发光器件层显示区的像素单元相对；

其中，在干法刻蚀所述光学膜层时，同时将对应于所述发光器件层非显示区的部分所述光学膜层以及部分所述封装层去除，依次交替且层叠的制作至少一层SiNx膜层和至少一层SiO₂膜层形成所述光学膜层，所述光学膜层具有预设厚度能够使所述镜面显示装置能够以不同的颜色反射显示。

2.根据权利要求1所述的镜面显示装置制作方法，其特征在于，

制作所述光学膜层时，在对应于所述发光器件层显示区的位置采用开口掩模板进行膜层的沉积制作。

3.基于权利要求1或2所述的镜面显示装置制作方法得到的镜面显示装置，其特征在于，包括：

依次层叠设置的阵列基板、发光器件层、封装层、金属反射层以及光学膜层；

其中，所述光学膜层具有多个开孔，多个所述开孔分别与所述发光器件层的像素单元正对，所述光学膜层为无机材料膜层，所述光学膜层具有预设的厚度能够使所述镜面显示装置能够以不同的颜色反射显示。

4.根据权利要求3所述的镜面显示装置，其特征在于，

所述光学膜层包括层叠设置的所述SiNx膜层和所述SiO₂膜层，所述SiNx膜层的厚度为45nm-75nm，所述SiO₂膜层的厚度为165nm-185nm；

或，所述光学膜层包括两层所述SiNx膜层一层所述SiO₂膜层，所述SiO₂膜层位于两层所述SiNx膜层之间，所述SiNx膜层的厚度为60nm，所述SiO₂膜层的厚度为50nm-170nm。

5.根据权利要求3所述的镜面显示装置，其特征在于，还包括：

依次设置在所述光学膜层远离所述金属反射层一侧的光学胶层和保护层。

6.根据权利要求3所述的镜面显示装置，其特征在于，

所述金属反射层的材料为MO、Al、Ti、Ti/Al/Ti中的一种、二种或多种组成。

7.根据权利要求3所述的镜面显示装置，其特征在于，

所述封装层包括依次层叠设置的第一无机层、有机层以及第二无机层。

8.根据权利要求3所述的镜面显示装置，其特征在于，

阵列基板为柔性阵列基板。