[发明专利]一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备装置及制备工艺

说明书

一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备装置及制备工艺，涉及光感化学技术领域。制备装置包括用于储备原料氢氟酸的第一储槽、用于储备原料氟化铵的第二储槽、用于储备原料表面活性剂的第三储槽、用于储备原料超纯水的第四储槽、混配槽、以及精密过滤器。第一储槽、第二储槽、第三储槽和第四储槽均同混配槽选择性地连通，混配槽的出口同精密过滤器的进口连通。其结构简单，实现了化繁为简，有助于简化生产流程并降低了操作难度，对于提高生产效率具有积极意义。制备工艺操作简单、易于实施，使整个生产过程更加精简，生产效率得到了提升。

技术领域

本发明涉及光感化学技术领域，具体而言，涉及一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备装置及制备工艺。

背景技术

现有的用于制备电子级二氧化硅蚀刻液的设备结构较为复杂，各个部件之间的配合控制难度也较高，使用起来相对繁琐，生产效率在一定程度上受到了抑制。

有鉴于此，特提出本申请。

发明内容

本发明的第一个目的在于提供一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备装置，其结构简单，实现了化繁为简，有助于简化生产流程并降低了操作难度，对于提高生产效率具有积极意义。

本发明的第二个目的在于提供一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备工艺，其操作简单、易于实施，使整个生产过程更加精简，生产效率得到了提升。

本发明的实施例是这样实现的：

一种用于电子级二氧化硅蚀刻液的制备装置，其包括：用于储备原料氢氟酸的第一储槽、用于储备原料氟化铵的第二储槽、用于储备原料表面活性剂的第三储槽、用于储备原料超纯水的第四储槽、混配槽、以及精密过滤器。第一储槽、第二储槽、第三储槽和第四储槽均同混配槽选择性地连通，混配槽的出口同精密过滤器的进口连通。

进一步地，混配槽包括：槽体、槽盖、辅混管。辅混管配置有动力泵，其出口端设于槽体的底壁并靠近槽体的侧壁设置，其进口端设于槽体的另一侧侧壁并靠近槽体的顶部设置。进口端和出口端相向设置。

进一步地，进口端的口部具有扩径段，扩径段的扩径方向沿槽体的长度方向设置，沿进口端的进流方向，扩径段的扩径量递减。

进一步地，辅混管的管体还配置有取样机构，取样机构包括：取样件、输出管、取样芯和驱动组件。

取样件具有呈圆筒状的内腔，取样件同辅混管的管体连接，内腔同辅混管的管体连通。输出管同取样件连接，输出管同内腔连通。取样芯呈圆筒状，取样芯可转动地配合于内腔，取样芯的外壁均同取样件的内壁转动密封。

取样芯的中部具有取样槽，取样槽由取样芯的侧壁凹陷形成。取样芯同驱动组件传动连接，以使取样芯能够在转动过程中将辅混管中的液体转送至输出管。

进一步地，取样槽由取样芯的侧壁沿其径向凹陷形成，沿取样槽的凹陷方向，取样槽的宽度递减。

进一步地，取样芯的转动轴心线垂直于取样位置处的辅混管的管体的轴心线设置。

进一步地，输出管的管壁设置有吹气管，吹气管朝向取样槽的口部设置。

进一步地，取样机构还包括：传送组件。传送组件包括转盘、第一滑槽、第二滑槽和驱动器。第一滑槽呈弧状并围绕转盘设置，转盘具有用于容纳样杯的缺口，缺口由转盘的边缘沿其径向凹陷形成，以使转盘在转动过程中能够利用缺口推动样杯沿第一滑槽滑动。第二滑槽设于第一滑槽的尾端，以用于承接由第一滑槽滑出的样杯，从而将样杯导出。驱动器同转盘传动连接，以间歇式地驱动转盘。

进一步地，传送组件还包括杯筒。杯筒设于转盘的上方并朝向滑槽设置，已用于向缺口输送样杯。

一种利用上述的制备装置制备电子级二氧化硅蚀刻液的制备工艺，其包括：按预设比例于混配槽中混配原料氢氟酸、原料氟化铵、原料表面活性剂和原料超纯水，经精密过滤器过滤后分装入库。