[发明专利]对可见光和近红外光具有低反射率的阳极化部件在审
申请号: | 202010863460.2 | 申请日: | 2020-08-25 |
公开(公告)号: | CN112556839A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | J·A·库兰;A·克莱曼-圣沃尔思科泰恩;小L·J·加西亚 | 申请(专利权)人: | 苹果公司 |
主分类号: | G01J1/42 | 分类号: | G01J1/42;H05K5/00;C23F1/00 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘玉洁 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可见 光和 红外光 具有 反射率 阳极 部件 | ||
1.一种用于便携式电子设备的壳体,所述壳体包括:
金属基板;以及
阳极化层,所述阳极化层覆盖所述金属基板并且包括其中具有近红外NIR光吸收材料的孔,其中入射到所述阳极化层的外表面上的NIR光的平均镜面反射率小于3%。
2.根据权利要求1所述的壳体,其中所述外表面包括随机分布的光吸收特征部。
3.根据权利要求2所述的壳体,其中所述随机分布的光吸收特征部对应于由谷分开的峰。
4.根据权利要求1所述的壳体,其中所述孔是密封的。
5.根据权利要求1所述的壳体,其中使用CIE L*a*b*色彩空间的所述阳极化层具有小于10的L*值。
6.根据权利要求1所述的壳体,其中所述NIR光吸收材料包括以下中的至少一种:金属、金属氧化物、染料或有机颜料。
7.根据权利要求1所述的壳体,其中所述NIR光吸收材料能够吸收入射到所述外表面上的可见光。
8.一种用于便携式电子设备的壳体,所述壳体包括:
基板;以及
阳极化层,所述阳极化层具有平均厚度值和包含NIR光吸收材料的孔,其中所述阳极化层包括:
(i)峰,所述峰对应于距所述平均厚度值的最大正偏差,和
(ii)谷,所述谷对应于距所述平均厚度值的最大负偏差,其中所述峰和所述谷之间的间距为2微米或更小。
9.根据权利要求8所述的壳体,其中使用CIE L*a*b*色彩空间的所述阳极化层具有小于5的L*值。
10.根据权利要求8所述的壳体,其中所述阳极化层的特征为具有小于3%的入射到所述阳极化层的外表面上的NIR光的平均镜面反射率。
11.根据权利要求10所述的壳体,其中所述阳极化层的特征为具有小于1%的入射到所述阳极化层的所述外表面上的可见光的平均镜面反射率。
12.根据权利要求8所述的壳体,其中所述孔是密封的。
13.根据权利要求8所述的壳体,其中所述NIR光吸收材料包括以下中的至少一种:金属、金属氧化物、染料或有机颜料。
14.根据权利要求8所述的壳体,其中所述孔的特征为具有内部体积,并且所述NIR光吸收材料占据所述内部体积的小于70%。
15.一种用于形成用于便携式电子设备的壳体的方法,所述壳体包括金属基板,所述方法包括:
形成覆盖所述金属基板的阳极化层,其中所述阳极化层包括孔;
将光吸收化合物电沉积在所述孔内;以及
通过蚀刻所述阳极化层的外表面在所述外表面上形成光吸收特征部。
16.根据权利要求15所述的方法,其中,在形成所述光吸收特征部之前,所述方法还包括:
密封所述孔。
17.根据权利要求16所述的方法,其中,在密封所述孔之前,所述方法还包括:
将NIR光吸收染料沉积在所述孔内。
18.根据权利要求17所述的方法,其中所述NIR光吸收染料包括锡。
19.根据权利要求15所述的方法,其中所述光吸收特征部对应于由凹陷部分开的峰。
20.根据权利要求15所述的方法,其中入射到所述阳极化层的外表面上的NIR光的平均镜面反射率小于3%。
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