[发明专利]一种薄膜制备设备及方法

权利要求书

1.一种薄膜制备设备，其特征在于，包括：盛放装置(1)和旋转部(2)，所述盛放装置(1)用于盛放溶解有镀膜物质的易挥发溶剂，所述旋转部(2)用于带动所述盛放装置(1)旋转、以使所述易挥发溶剂铺平并挥发；

所述盛放装置(1)设置有用于固定待镀膜的衬底(5)的固定部。

2.根据权利要求1所述的薄膜制备设备，其特征在于，还包括用于对所述盛放装置(1)进行加热的加热装置(3)，以提高所述易挥发溶剂的挥发效率。

3.根据权利要求1或2所述的薄膜制备设备，其特征在于，还包括用于对所述盛放装置(1)内部空间进行抽真空操作的抽真空设备(4)。

4.根据权利要求3所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述抽真空设备(4)包括用于与所述盛放装置(1)内部空间连通的连接管(41)、真空泵(43)、连接所述连接管(41)与所述真空泵(43)的冷凝管(42)以及用于收集所述冷凝管(42)冷凝之后产物的溶剂收集装置(44)；

所述溶剂收集装置(44)与所述冷凝管(42)连通且设置于所述冷凝管(42)的下部。

5.根据权利要求1或2所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述盛放装置(1)还包括具有底面的筒状结构的外壳(11)以及可拆卸的设置于所述外壳(11)内的内衬(12)，所述内衬(12)压设于所述固定部的上部、以固定所述衬底(5)。

6.根据权利要求5所述的薄膜制备设备，其特征在于，所述固定部为垫圈(13)，所述外壳(11)设置有用于放置所述衬底(5)的平整底面，所述垫圈(13)压设于所述衬底(5)的上部。

7.一种薄膜制备方法，其特征在于，包括：

将镀膜物质溶解于易挥发溶剂中；

将溶解有镀膜物质的所述易挥发溶剂平铺于待镀膜的衬底(5)的表面；

旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底(5)；

所述易挥发溶剂挥发直至在所述衬底(5)表面形成薄膜。

8.根据权利要求7所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底(5)包括：

所述衬底(5)的转速为10r/min-600r/min。

9.根据权利要求7所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底(5)还包括：

对铺设于所述衬底(5)表面的易挥发溶剂进行加热。

10.根据权利要求7所述的薄膜制备方法，其特征在于，所述旋转铺设有所述易挥发溶剂的衬底(5)还包括：

对平铺于所述衬底(5)的易挥发溶剂所处的空间进行抽真空处理。