[发明专利]光学元件的制造方法、光学元件以及显示装置有效
申请号: | 202010868288.X | 申请日: | 2020-08-26 |
公开(公告)号: | CN112445114B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 斋藤淳;立木洋幸;野口俊幸 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03H1/12 | 分类号: | G03H1/12;G02B5/32;G02B27/01 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 邓毅;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种光学元件的制造方法,其特征在于,该光学元件的制造方法具有如下工序:
第1工序,将全息形成用材料按压并粘贴于具有标记部的弯曲形状的玻璃基板,然后对所述全息形成用材料进行干涉曝光,由此在所述玻璃基板上形成全息层;以及
第2工序,将从所述玻璃基板剥离的所述全息层粘贴于具有第1对准标记的弯曲形状的塑料基板,
在所述第1工序中,在所述干涉曝光时,在所述全息层形成第2对准标记,所述第2对准标记形成在所述全息层的与所述玻璃基板的曲面程度相应地偏离所述标记部的位置,
在所述第2工序中,将所述塑料基板的所述第1对准标记与所述全息层的所述第2对准标记重叠,由此进行所述塑料基板和所述全息层的对位。
2.根据权利要求1所述的光学元件的制造方法,其特征在于,
在所述第1工序中,在所述玻璃基板的与形成有所述标记部的第1面相反的第2面粘贴所述全息形成用材料。
3.根据权利要求1或2所述的光学元件的制造方法,其特征在于,
在所述玻璃基板中,所述标记部设置于使得在所述全息层的光学有效区域的外侧形成所述第2对准标记的位置。
4.根据权利要求1所述的光学元件的制造方法,其特征在于,
在所述第2工序中,使用如下的所述塑料基板,该塑料基板在考虑了所述第1对准标记的曝光位置相对于所述标记部的偏离的位置配置有所述第1对准标记。
5.根据权利要求1所述的光学元件的制造方法,其特征在于,
在所述第2工序中,通过粘接材料将所述塑料基板和所述全息层贴合。
6.根据权利要求1所述的光学元件的制造方法,其特征在于,
在所述第1工序中,使用由球面波构成的参照光和物体光对所述全息形成用材料进行干涉曝光。
7.一种光学元件的制造方法,其特征在于,该光学元件的制造方法具有如下工序:
第1工序,将第1全息形成用材料按压并粘贴于具有标记部的弯曲形状的玻璃基板,然后对所述第1全息形成用材料进行干涉曝光,由此在所述玻璃基板上形成第1全息层;
第2工序,将从所述玻璃基板剥离的所述第1全息层粘贴于具有第1对准标记的弯曲形状的塑料基板;
第3工序,将第2全息形成用材料粘贴于所述玻璃基板,然后对所述第2全息形成用材料进行干涉曝光,由此在所述玻璃基板上形成第2全息层;以及
第4工序,将从所述玻璃基板剥离的所述第2全息层重叠地粘贴到已经粘贴于所述塑料基板的所述第1全息层上,
在所述第1工序中,在所述干涉曝光时,在所述第1全息层形成第2对准标记,所述第2对准标记形成在所述第1全息层的与所述玻璃基板的曲面程度相应地偏离所述标记部的位置,
在所述第2工序中,将所述塑料基板的所述第1对准标记与所述第1全息层的所述第2对准标记重叠,由此进行所述塑料基板和所述第1全息层的对位。
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