[发明专利]一种形变测量系统及方法

权利要求书

1.一种形变测量系统，其特征在于，包括控制器(1)、二维平面部件(2)和多个激光位移传感器(3)，多个所述激光位移传感器(3)阵列排布在所述二维平面部件(2)上；

多个所述激光位移传感器(3)用于当所述二维平面部件(2)相对于待测二维平面结构(4)设置时，均按照预设频率采集所述待测二维平面结构(4)的不同位置的测量信号并发送至所述控制器(1)；

所述控制器(1)用于根据每个所述激光位移传感的测量信号，得到所述待测二维平面结构(4)的不同位置在不同时刻的形变量。

2.根据权利要求1所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述控制器(1)包括控制芯片(10)和A/D转换模块(11)，所述控制器(1)具体用于：

通过所述A/D转换模块(11)将每个测量信号进行A/D转换，得到每个测量信号一一对应的数字量信号，并将每个数字量信号发送至所述控制芯片(10)；

通过所述控制芯片(10)根据每个所述数字量信号得到所述待测二维平面结构(4)的不同位置在不同时刻的形变量。

3.根据权利要求2所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述控制芯片(10)具体用于：

根据每个激光位移传感器(3)在初始时刻的数字量信号，得到每个激光位移传感器(3)对应的一个初始值；

根据每个激光位移传感器(3)在所述初始时刻之后的每个时刻的数字量信号，得到每个激光位移传感器(3)在所述初始时刻之后的每个时刻的一个实时测量值；

根据每个激光位移传感器(3)的初始值和每个激光位移传感器(3)在所述初始时刻之后的每个时刻的实时测量值，得到所述待测二维平面结构(4)的不同位置在不同时刻的形变量。

4.根据权利要求3所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述控制器(1)还包括与所述A/D转换模块(11)连接的接口(12)，所述激光位移传感器(3)具体用于将采集的测量信号通过所述接口(12)发送至所述A/D转换模块(11)。

5.根据权利要求4所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述控制器(1)还包括箱体(13)，所述控制芯片(10)和所述A/D转换模块(11)均设置在所述箱体(13)内，所述接口(12)设置在箱体(13)的表壁上。

6.根据权利要求5所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述控制器(1)还包括供电模块(15)，所述供电模块(15)连接控制芯片(10)、所述A/D转换模块(11)和所述接口(12)并供电。

7.根据权利要求1至5任一项所述的一种形变测量系统，其特征在于，还包括与所述二维平面部件(2)连接的支架(20)，所述支架(20)用于支撑所述二维平面部件(2)。

8.根据权利要求1至5任一项所述的一种形变测量系统，其特征在于，还包括与所述控制器(1)连接的显示器(5)，所述显示器(5)用于接收所述控制器(1)所发送的所述待测二维平面结构(4)的不同位置在不同时刻的形变量并显示。

9.根据权利要求1至5任一项所述的一种形变测量系统，其特征在于，所述待测二维平面结构(4)为雷达的天线阵面。

10.一种形变测量方法，利用权利要求1至9任一项所述的一种形变测量系统，其特征在于，包括：

当所述二维平面部件(2)相对于所述待测二维平面结构(4)设置时，多个所述激光位移传感器(3)均按照预设频率采集所述待测二维平面结构(4)的不同位置的测量信号并发送至所述控制器(1)；

所述控制器(1)根据每个所述激光位移传感的测量信号，得到所述待测二维平面结构(4)的不同位置在不同时刻的形变量。