[发明专利]一种大型地下洞室顶拱层开挖施工方法

权利要求书

1.一种大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，洞室顶拱层采用先中导洞开挖、后两侧扩挖推进的方法进行开挖，其特征在于：在两侧扩挖时，在各侧均首先至少开挖形成一处边墙开口刻槽，然后在各边墙开口刻槽中沿洞室纵向连续分序分块扩挖；各边墙开口刻槽的纵向长度大于开挖台车长度3米。

2.根据权利要求1所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述两侧的边墙开口刻槽相互位置沿洞室纵向错位至少20～30米布置。

3.根据权利要求2所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述洞室长度小于250m的顶拱层，采用中导洞先开挖完成，再进行两侧开挖区扩挖的施工方式，一侧边墙开口刻槽位置位于洞室轴线中间部位。

4.根据权利要求3所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述边墙开口刻槽开挖在中导洞剩余30～50m时启动开挖施工。

5.根据权利要求2所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述洞室长度大于等于250m的顶拱层，采用先中导洞开挖，后两侧扩挖，品字型推进的施工方式；一侧边墙开口刻槽位置位于距离中导洞未开挖面20～30m处。

6.根据权利要求5所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述边墙开口的开口刻槽开挖在中导洞开挖完成100m时启动开挖施工。

7.根据权利要求1至5任一项所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于所述各边墙开口刻槽开挖包括以下步骤：

刻槽开挖分块设计；1)结构线预留保护层厚度1.2～1.8m；中下部掏槽进尺根据开挖总厚度，控制在2.5m～3.5m；3)保护层刻槽深度根据顶拱弧线半径、钻机构造，按照最大超挖15cm进行；

刻槽施工程序；依据开挖分块自上向下、自外向内开挖；

刻槽实施要点；1)根据分块，中下部实施水平掏槽爆破，上部结构线预留保护层实施光面爆破；2)光爆孔的孔间距为40cm～60cm，采用小药卷捆绑于竹片上，导爆索间隔装药，底药装1/2节φ25药卷，间隔20cm，装1/3节药卷，堵塞长度应大于20cm；主爆孔连续装药，采用φ32药卷；3)钻孔作业前由测量人员，每一排炮根据爆破设计逐孔放点，周边孔后视点须间隔放样，标示超欠挖情况，洞轴线中心线标识清楚，孔位中心线与前一排炮残孔对齐，误差在±5cm以内；4)钻孔施工采用长短两种钻杆，短钻杆长度为1m，以利于钻孔开口，长钻杆长度根据开挖进尺设计进行选定并在钻杆上做好钻孔深度标识。

8.根据权利要求7所述的大型地下洞室顶拱层开挖施工方法，其特征在于：所述各边墙开口刻槽开挖后进行以下方法的支护：在结构线保护层每序开挖完成后及时初喷3～5cm混凝土进行封闭，待开口成型后系统完成锚杆、挂网及复喷；或在结构线保护层每序开挖完成后先行完成初喷及系统锚杆，待开口成型后系统完成挂网及复喷。