[发明专利]一种包覆型碳硅负极材料的制备方法有效
申请号: | 202010877236.9 | 申请日: | 2020-08-27 |
公开(公告)号: | CN111960421B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 贺川;杨敏;刘金旭;冯新娅;蔡奇 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C01B33/02 | 分类号: | C01B33/02;C01B32/05;H01M4/38;H01M4/62;H01M10/0525;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 刘奇 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 包覆型碳硅 负极 材料 制备 方法 | ||
1.一种包覆型碳硅负极材料的制备方法,由以下步骤组成:
(1)将聚四氟乙烯颗粒和硅颗粒混合后进行球磨,得到混合粉体;
(2)将所述步骤(1)得到的混合粉体点燃,进行氧化还原反应,得到包覆型碳硅负极材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中聚四氟乙烯颗粒的粒径为100nm~50μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中硅颗粒的粒径为100nm~5μm。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中球磨的转速为200~500rpm。
5.根据权利要求1或4所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中球磨的时间为1~10h。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述混合粉体中聚四氟乙烯的质量分数为30~80%,所述混合粉体中硅的质量分数为20~70%。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中混合粉体点燃的操作在密闭容器中进行。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述密闭容器中的气氛为空气、氩气或氮气。
9.根据权利要求7或8所述的制备方法,其特征在于,所述密闭容器的压力为10Pa~1MPa。
10.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中包覆型碳硅负极材料的粒径为20nm~1μm。
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