[发明专利]一种高效的光反射阵列结构及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010877582.7 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN112180485A 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 董小春;王德麾;杨武;姜世平;郑鑫;代冬军 申请(专利权)人: 四川云盾光电科技有限公司
主分类号: G02B5/122 分类号: G02B5/122;G02B7/182;F16F15/04
代理公司: 成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙) 51251 代理人: 饶振浪;成实
地址: 610225 四川省成都市*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 高效 反射 阵列 结构 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高效的光反射阵列结构,其特征在于,包括底座(7),通过若干个缓冲机构安装在底座(7)上的安装座(1),以及安装在安装座(1)上的反射机构(3);所述缓冲机构(8)包括固定在底座(7)上的下套(82),固定在安装座(1)上且套设在下套(82)外侧的上套(81),以及一端连接下套(82)、另一端连接上套(81)的压缩弹簧(83);所述上套(81)能沿下套(82)上下移动。

2.根据权利要求1所述的一种高效的光反射阵列结构,其特征在于,所述安装座(1)上设置有安装腔(2),所述反射机构(3)安装于安装腔(2)内。

3.根据权利要求2所述的一种高效的光反射阵列结构,其特征在于,所述反射机构(3)包括若干个依次拼接的反射单元,所述反射单元呈阵列分布;所述反射单元包括构成八面体的三个相邻的第一平面(4)、第二平面(5)以及第三平面(6);所述第三平面(6)、第一平面(4)以及第二平面(5)之间相互垂直,第一平面(4)和第二平面(5)为长方形,且第一平面(4)和第二平面(5)共用一条长边L3;第三平面(6)为六边形且有且仅有一个内角α大于180度;第三平面(6)包括相互平行的两组短边和另外相互平行的一组长边L1与L2,第一平面(4)、第二平面(5)以及第三平面(6)具有共同的交点P2,第一平面(4)和第二平面(5)分别与第三平面(6)共用一条短边。

4.根据权利要求3所述的一种高效的光反射阵列结构,其特征在于,长边L3的长度和点P2到内角α的顶点P3的距离均大于第一平面(4)中与长边L3相互垂直的边的边长,同时也大于第二平面(5)中与长边L3相互垂直的边的边长。

5.根据权利要求1~4任一项所述的光反射阵列结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将安装座(1)通过缓冲机构(8)安装于底座(7)上;

(2)通过车削工艺成型出反射单元,并在第一平面(4)、第二平面(5)以及第三平面(6)表面镀金属膜;

(3)在第一平面(4)、第二平面(5)以及第三平面(6)表面填充高折射率材料作为折光介质和保护层;

(4)将若干个反射单元依次粘接于安装座(1)上,使反射单元成阵列分布。

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