[发明专利]衬底基座

权利要求书

1.一种衬底基座，其包括：

适配器，所述适配器具有限定所述适配器中的圆柱形内部区域的侧壁，所述侧壁具有上表面和下表面，所述适配器的所述上表面包括环形气体通道、内槽和外槽，所述内槽在形成在所述适配器的所述侧壁中的至少一个气体通道的径向内侧，所述外槽位于所述内槽和所述环形气体通道的径向外侧，所述内槽配置成接收内O形环在其内，以在所述圆柱形内部区域和所述至少一个气体通道之间形成内真空密封，所述外槽配置成接收外O形环在其内，以在围绕所述适配器的所述侧壁的区域和所述至少一个气体通道之间形成外真空密封；以及

杆，其配置成与所述适配器机械耦合，所述杆具有：限定所述杆中的圆柱形内部区域的侧壁，所述侧壁包括下表面，和上表面，所述适配器的所述下表面与所述杆的所述侧壁的所述上表面机械耦合，所述杆的所述下表面包括至少一个气体入口，所述至少一个气体入口与所述杆的所述侧壁中的相应的气体通道流体连通，所述至少一个气体入口与所述适配器的所述上表面的所述环形气体通道流体连通。

2.根据权利要求1所述的衬底基座，其中，所述杆在所述杆的下部和所述杆的上部之间具有减小的横截面积，所述减小的横截面积提供热壅塞以限制从所述杆到所述适配器的热传输。

3.根据权利要求1所述的衬底基座，还包括台板，所述台板耦合到所述杆的上部，所述台板具有构造成支承衬底的上表面和与所述杆的所述侧壁中的相应的气体通道流体连通的至少一个台板气体通道。

4.根据权利要求3所述的衬底基座，其中所述至少一个台板气体通道构造成在衬底处理操作期间将背部气体供给到放置在所述台板上的衬底。

5.根据权利要求1所述的衬底基座，其中位于所述内槽的径向外侧的所述外槽形成所述环形气体通道的一部分，并且所述外O形环被配置成被放置在所述外槽和所述环形气体通道组合的径向外侧的部分上。

6.一种衬底基座，其包括：

适配器，所述适配器具有上表面和限定所述适配器的圆柱形内部区域的侧壁，所述适配器的所述侧壁包括至少一个气体通道，所述至少一个气体通道从所述适配器的所述侧壁的下表面穿过所述侧壁到所述适配器的所述侧壁的所述上表面，所述适配器的所述上表面包括内槽和外槽，所述内槽在所述至少一个气体通道的径向内侧，所述外槽位于所述至少一个气体通道的径向外侧，以及

杆，其具有限定所述杆的圆柱形内部区域的侧壁，所述杆的所述侧壁包括上表面和下表面，所述上表面被配置为支承台板，所述杆的所述侧壁的所述下表面配置成连接至所述适配器的所述侧壁的所述上表面，所述杆的所述侧壁的所述下表面包括形成在其上的环形气体通道，所述杆的所述侧壁包括至少一个气体通道，所述至少一个气体通道从所述杆的所述侧壁的所述下表面穿过所述侧壁到所述杆的所述侧壁的所述上表面。

7.根据权利要求6所述的衬底基座，其中，所述杆中的所述至少一个气体通道与所述环形气体通道流体连通。

8.根据权利要求6所述的衬底基座，其中，所述适配器中的所述至少一个气体通道与所述环形气体通道流体连通。

9.根据权利要求6所述的衬底基座，其中，所述杆中的所述至少一个气体通道和所述适配器中的所述至少一个气体通道至少通过所述环形气体通道彼此流体连通。

10.根据权利要求6所述的衬底基座，其中，所述适配器的所述侧壁中的所述至少一个气体通道包括在其下部上的至少一个气体入口，并且所述杆的所述侧壁中的所述至少一个气体通道包括在所述杆的所述下表面上的至少一个气体入口。

11.根据权利要求10所述的衬底基座，其中，所述适配器中的所述至少一个气体通道与位于所述杆的所述侧壁中的所述至少一个气体通道流体连通，并且当所述杆连接到所述适配器时，所述杆的所述下表面中的所述至少一个气体入口被配置为与所述适配器的上表面中的至少一个气体出口流体连通。