[发明专利]一种复合光学黑膜及其制备方法与超薄玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种复合光学黑膜，其特征在于，包括在基体上的多层铬膜层(3)和多层二氧化硅膜层(4)；

多层铬膜层(3)和多层二氧化硅膜层(4)依次交替堆叠，位于最底层的铬膜层(3)与基体贴合。

2.根据权利要求1所述的复合光学黑膜，其特征在于，铬膜层(3)和二氧化硅膜层(4)的厚度比例均为1:1.8～2.4。

3.根据权利要求1所述的复合光学黑膜，其特征在于，靠近基体的多层铬膜层(3)和多层二氧化硅膜层(4)厚度大于远离基体的多层铬膜层(3)和多层二氧化硅膜层(4)，厚度较大部分为应力平衡层(2)，厚度较小部分为减反层(1)。

4.根据权利要求3所述的复合光学黑膜，其特征在于，减反层(1)中包括三层铬膜层(3)和三层二氧化硅膜层(4)，应力平衡层(2)中包括两层铬膜层(3)和两层二氧化硅膜层(4)。

5.根据权利要求1所述的复合光学黑膜，其特征在于，多层铬膜层(3)和多层二氧化硅膜层(4)堆叠总厚度为380nm-1100nm时，透过率平均小于0.05％；总厚度为380nm-780nm时，平均反射率小于1％；总厚度为780nm-1100nm时，平均反射率小于5％。

6.一种复合光学黑膜的制备方法，其特征在于，使用物理气象沉积法在基体上依次交替镀制铬膜层(3)和二氧化硅膜层(4)，直到铬膜层(3)和二氧化硅膜层(4)数量相同且达到需要数量。

7.一种超薄玻璃，其特征在于，包括超薄玻璃本体(5)、光刻胶层(6)和权利要求1-5任意一项所述的复合光学黑膜，其中复合光学黑膜的应力平衡层(2)与光刻胶层(6)贴合，光刻胶层(6)贴合超薄玻璃本体(5)一侧。

8.根据权利要求7所述的超薄玻璃，其特征在于，超薄玻璃本体(5)为超薄晶圆玻璃。

9.一种超薄玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤；

步骤一，在超薄玻璃本体(5)上涂覆一层光刻胶层(6)；

步骤二，在光刻胶层(6)上使用物理气象沉积法依次交替镀制铬膜层(3)和二氧化硅膜层(4)，直到铬膜层(3)和二氧化硅膜层(4)数量相同且达到需要数量。