[发明专利]实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统及测量方法

权利要求书

1.一种实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统及其测量方法，其特征在于，该系统包括光源模块(100)、分束镜(200)、样品测量模块(300)、参考物测量模块(400)以及光谱采集模块(500)；

其中：所述光源模块(100)输出设定直径的照明光束，所述分束镜(200)将照明光束分为两束光，分别进入所述样品测量模块(300)和所述参考物测量模块(400)；所述样品测量模块(300)和所述参考物测量模块(400)分别返回样品光谱和参考物光谱，所述光谱采集模块收集样品与参考物的光谱并传送至计算机，用以计算对比光谱；

所述光源模块(100)包括复色非偏振光源(1)和复色光准直镜(2)；

所述分束镜(200)包括分束镜(3)；

所述样品测量模块(300)包括第一快门(4)和样品夹持机构(5)；

所述参考物测量模块(400)包括第二快门(6)和参考夹持机构(7)；

所述光谱采集模块(500包括光纤准直器(8)、光纤(9)和光谱仪(10)。

2.如权利要求1所述的实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统，其特征在于，光谱测量范围为400～1000nm，样品测试区域直径为1～5mm。

3.利用如权利要求1所述的实现高深宽比微沟槽深度测量的对比光谱系统所实现的测量方法，该方法包括以下步骤：

步骤A：获得样品与参考物，并分别安装于样品夹持机构与参考物夹持机构上；

步骤B：调整样品夹持机构与参考物夹持机构以优化反射光谱收集效率；

步骤C：打开第一快门并关闭第二快门，由光谱仪测量样品的反射光谱；

步骤D：打开第二快门并关闭第一快门，由光谱仪测量参考物的反射光谱；

步骤E：由样品和参考物的反射光谱计算对比光谱，利用光谱傅里叶分析法与光谱拟合法解析高深宽比沟槽的深度值。