[发明专利]一种纳米多孔NiCr合金薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，所述纳米多孔NiCr合金薄膜多孔结构完整、连续，形状均匀、尺寸可控，且溅射面积大，厚度轻薄，所述薄膜孔径在80-120nm，厚度在300-1000nm；该薄膜能够提高对宽光谱的吸收，在紫外近红外波段200-1000nm，吸收性能优良，其吸收率大于95％，在宽光谱吸收和发射涂层方面具有广阔的应用前景，其特征在于，制备方法具体步骤如下：

(1)选择衬底，并依次用丙酮、去离子水、无水乙醇超声清洗并烘干；

(2)将清洗好的衬底快速转移到磁控溅射设备的样品台上，迅速关闭真空腔室，打开真空泵进行抽真空作业；

(3)抽到本底真空度为7.0*10^-4Pa时，打开氩气瓶罐，打开气阀，通入氩气，通过调节气体流量计设置氩气流量，衬底温度设置为200℃，调节分子泵的插板阀，设置溅射气压为0.83Pa；

(4)打开衬底的总挡板，打开磁控溅射设备的离子源清洗电源，调节好电源功率，对衬底进行离子源清洗；

(5)关闭总挡板，此时打开双靶预溅射以去除靶材表面的氧化物；

(6)关闭钛靶，调节好镍铬合金靶功率，打开总挡板，溅射镍铬过渡层；

(7)打开钛靶，其与镍铬合金靶共溅射45min；

(8)将经过上述工艺制备的薄膜材料在氩气惰性气体环境下的真空腔中自然冷却，冷却到80-100℃；

(9)将冷却好的材料放置在配置好的氢氟酸溶液中，在室温下腐蚀一定时间即可得到多孔纳米镍铬合金薄膜材料。

2.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的衬底为氧化铝衬底。

3.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述氩气流量为60sccm。

4.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，使用的离子源功率为150W，清洗时间为10min。

5.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(5)中，镍铬合金靶功率为300W，钛靶功率为150W，预溅射的时长为10min。

6.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(6)中，镍铬合金靶功率为300W，镍铬合金靶先溅射的打底层即镍铬过渡层的厚度为

7.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(7)中，镍铬合金靶功率为300W，钛靶功率为150W。

8.如权利要求1所述的一种纳米多孔NiCr合金薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(9)中，氢氟酸溶液的浓度为0.15mol/L；腐蚀时间控制在50min。