[发明专利]一种超清柔性发光显示器及其制备方法在审
申请号: | 202010883505.2 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN111969002A | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 陈卉敏;陈旻彧;周朋超;朱志强;孙阿辉;严利民;徐韬;兰伟霞;魏斌 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/44;G09F9/30 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 杨媛媛 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 发光 显示器 及其 制备 方法 | ||
1.一种超清柔性发光显示器的制备方法,其特征在于,包括:
将覆盖有第一掩膜版的柔性基板置于真空蒸镀仓;
采用真空蒸镀法,以第一设定蒸镀速率在所述柔性基板上依次蒸镀设定厚度的氧化钨和设定厚度的氟化锂,得到蒸镀基底层;
在所述蒸镀基底层上以第二设定蒸镀速率蒸镀设定颜色的荧光粉,得到与所述设定颜色相同颜色的彩光DBR层;
将所述第一掩膜版更换为第二掩膜版,并返回“采用真空蒸镀法,以第一设定蒸镀速率在所述柔性基板上依次蒸镀设定厚度的氧化钨和设定厚度的氟化锂,得到蒸镀基底层”,直至得到红光DBR层、蓝光DBR层和绿光DBR层。
2.根据权利要求1所述的超清柔性发光显示器的制备方法,其特征在于,所述采用真空蒸镀法,以第一设定蒸镀速率在所述柔性基板上依次蒸镀设定厚度的氧化钨和设定厚度的氟化锂,得到蒸镀基底层,具体包括:
循环执行“采用真空蒸镀法,以第一设定蒸镀速率在所述柔性基板上依次蒸镀设定厚度的氧化钨和设定厚度的氟化锂”3次后,得到蒸镀基底层。
3.根据权利要求1所述的超清柔性发光显示器的制备方法,其特征在于,所述第一设定蒸镀速率为
4.根据权利要求1所述的超清柔性发光显示器的制备方法,其特征在于,所述设定厚度为D,D=λ/(4n);
其中,λ为光的波长,n为氧化钨和氟化锂的折射率。
5.根据权利要求1所述的超清柔性发光显示器的制备方法,其特征在于,所述第二设定蒸镀速率小于等于
6.一种超清柔性发光显示器,其特征在于,所述超清柔性发光显示器是采用如权利要求1-5任意一项所述的制备方法制备得到的;所述超清柔性发光显示器包括:柔性基板、蒸镀基底层和彩光DBR层;
所述柔性基板上生长有所述蒸镀基底层;所述蒸镀基底层上生长所述彩光DBR层;所述彩光DBR层包括红光DBR层、蓝光DBR层和绿光DBR层。
7.根据权利要求6所述的一种超清柔性发光显示器,其特征在于,所述蒸镀基底层包括多层氧化钨-氟化锂层;
每一层所述氧化钨-氟化锂层均包括设定厚度的氧化钨层和设定厚度的氟化锂层;所述设定厚度的氧化钨层生长在所述柔性基板上;所述设定厚度的氟化锂层生长在所述设定厚度的氧化钨层上;所述设定厚度为D,D=λ/(4n);其中,λ为光的波长,n为氧化钨和氟化锂的折射率。
8.根据权利要求6所述的一种超清柔性发光显示器,其特征在于,所述红光DBR层、蓝光DBR层和绿光DBR层组合形成预设图案。
9.根据权利要求6所述的一种超清柔性发光显示器,其特征在于,所述柔性基板的材料为PET透明材料。
10.一种超清柔性发光显示系统,其特征在于,包括:紫外光照射器和权利要求6-9任意一项所述的超清柔性发光显示器;
所述超清柔性发光显示器根据所述紫外光照射器发射的紫外光变换、显示预设图案。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的