[发明专利]一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法有效
申请号: | 202010883583.2 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN111912829B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 苏巍;罗寅龙;易恬安;陈秉岩 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | G01N21/65 | 分类号: | G01N21/65;B82Y15/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 丁涛 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 表面 等离子体 效应 sers 基底 设计 方法 | ||
1.一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法,其特征在于包括如下步骤:
S1、采用时域有限差分算法,设置SERS基底的结构,其包括SiO2基底层,在SiO2基底层上设置有Au金属薄膜层,Au金属薄膜层上方附着一层SiO2介质层,介质层上方设置有Au顶层金属以及位于Au顶层金属上的双圆孔结构,同时设置该基底的周期性边界结构;
S2、确定仿真的初始条件,固定SiO2基底层的厚度,周期性结构的边界条件,以及双圆孔结构的半径;
S3、依次改变Au金属薄膜层的厚度、SiO2介质层的厚度、Au顶层金属层的厚度、以及双圆孔结构的缝距大小,利用FDTD solution软件计算SERS基底的电场强度分布,根据电场强度分布计算SERS基底的增强因子,其中,每个双圆孔结构包括2个圆形孔洞,两个圆形孔洞相交,相交部分最短距离为双圆孔的缝距;
S4、从步骤(3)中,筛选出增强因子较大的结构作为优化之后的SERS基底。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河海大学常州校区,未经河海大学常州校区许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010883583.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。