[发明专利]一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法有效

专利信息
申请号: 202010883583.2 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN111912829B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 苏巍;罗寅龙;易恬安;陈秉岩 申请(专利权)人: 河海大学常州校区
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65;B82Y15/00;B82Y40/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 丁涛
地址: 213022 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 表面 等离子体 效应 sers 基底 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种基于表面等离子体激元效应的SERS基底的设计方法,其特征在于包括如下步骤:

S1、采用时域有限差分算法,设置SERS基底的结构,其包括SiO2基底层,在SiO2基底层上设置有Au金属薄膜层,Au金属薄膜层上方附着一层SiO2介质层,介质层上方设置有Au顶层金属以及位于Au顶层金属上的双圆孔结构,同时设置该基底的周期性边界结构;

S2、确定仿真的初始条件,固定SiO2基底层的厚度,周期性结构的边界条件,以及双圆孔结构的半径;

S3、依次改变Au金属薄膜层的厚度、SiO2介质层的厚度、Au顶层金属层的厚度、以及双圆孔结构的缝距大小,利用FDTD solution软件计算SERS基底的电场强度分布,根据电场强度分布计算SERS基底的增强因子,其中,每个双圆孔结构包括2个圆形孔洞,两个圆形孔洞相交,相交部分最短距离为双圆孔的缝距;

S4、从步骤(3)中,筛选出增强因子较大的结构作为优化之后的SERS基底。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河海大学常州校区,未经河海大学常州校区许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010883583.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top