[发明专利]一种TIR透镜优化设计的方法、终端及存储介质在审
申请号: | 202010883831.3 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112287418A | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 熊统;林小炜 | 申请(专利权)人: | 东莞市爱加照明科技有限公司 |
主分类号: | G06F30/10 | 分类号: | G06F30/10;F21V5/04 |
代理公司: | 深圳协成知识产权代理事务所(普通合伙) 44458 | 代理人: | 章小燕 |
地址: | 523770 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tir 透镜 优化 设计 方法 终端 存储 介质 | ||
1.一种TIR透镜优化设计的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
在点光源下计算目标角度对应的初始光强分布与初始出射光角度,并根据所述初始光强分布、所述初始出射光角度及入射光参数求出初始后模自由曲线所有点坐标;
对所述初始后模自由曲线所有点坐标进行曲线拟合及光学模拟操作,得到初始配光曲线;
分析所述初始配光曲线的曲线状态,并在所述初始配光曲线出现波动缺陷及中心失平滑缺陷时,分别通过余弦函数校正所述初始光强分布及通过刺激值校正所述初始出射光角度,直至达到目标配光效果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述入射光参数包括入射光角度,所述入射光角度为初始光线角度与TIR透镜的底部开孔的拔模斜度之差。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述初始后模自由曲线所有点坐标进行曲线拟合及光学模拟操作,得到初始配光曲线的步骤包括:
通过3D软件对所述初始后模自由曲线所有点坐标进行曲线拟合,并在目标面绘制柔化光斑、光色的结构后,代入光学模拟软件中,用既定面光源对3D图档进行初次模拟,得到初始配光曲线。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述波动缺陷包括所述初始配光曲线中心部分存在尖锐凸起或所述初始配光曲线中心部分存在明显凹陷。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述余弦函数y=a*cos(2*π/λ*x);其中,a为所述尖锐凸起或所述明显凹陷占总高的比例,且当所述初始配光曲线中心部分存在尖锐凸起时,a为负数,当所述初始配光曲线中心部分存在明显凹陷时,a为正数;λ为所述尖锐凸起或所述明显凹陷的两侧角度差值的2倍,x为等分的100份目标角度。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述通过余弦函数校正所述初始光强分布的过程包括以下步骤:
对所述初始光强分布添加一个所述余弦函数,生成二次光强分布;
根据所述二次光强分布、所述初始出射光角度及入射光参数求出二次后模自由曲线所有点坐标;
根据所述二次后模自由曲线所有点坐标进行曲线拟合及光学模拟操作,得到二次配光曲线;
分析所述二次配光曲线的曲线状态,并在所述二次配光曲线存在波动缺陷时重复上述各步骤,直至所述二次配光曲线消除所述波动缺陷为止。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述通过刺激值校正所述初始出射光角度的过程包括以下步骤:
对所述初始出射光角度添加一个所述刺激值,生成二次出射光角度,所述刺激值为可调整的定值;
根据所述二次光强分布、所述二次出射光角度及入射光参数求出三次后模自由曲线所有点坐标;
根据所述三次后模自由曲线所有点坐标进行曲线拟合及光学模拟操作,得到三次配光曲线;
分析所述三次配光曲线的曲线状态,并在所述三次配光曲线存在中心失平滑缺陷时重复上述各步骤,直至所述三次配光曲线消除所述中心失平滑缺陷为止。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,对所述初始出射光角度添加一个所述刺激值,生成二次出射光角度的过程具体为:σ=(Ω^2+K^2)^0.5,其中,σ为二次出射光角度,Ω为初始出射光角度,K为刺激值。
9.一种终端,其特征在于,包括:存储器、处理器、存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的程序以及用于实现所述处理器和所述存储器之间的连接通信的数据总线,所述程序被所述处理器执行时实现如权利要求1-8任一所述的方法的步骤。
10.一种存储介质,用于计算机可读存储,其特征在于,所述存储介质存储有一个或者多个程序,所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行,以实现如权利要求1-8任一所述的方法的步骤。
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