[发明专利]一种铯锡碘薄膜、其制备方法及应用有效
申请号: | 202010884356.1 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112054126B | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 黄军意;谭付瑞;梅延涛;高跃岳;董琛;刘荣;岳根田;张伟风 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
主分类号: | H01L51/48 | 分类号: | H01L51/48;H01L51/42;H01L51/44;H01L51/00 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 张丽 |
地址: | 475001*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铯锡碘 薄膜 制备 方法 应用 | ||
1.一种溶液法制备Cs2SnI6薄膜的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将碘化铯与碘化锡加入DMSO或DMSO和DMF的混合溶剂中,在20~70℃搅拌溶解,配成Cs2SnI6前驱体溶液;
(2)以步骤(1)中配制得到的前驱体溶液在N2氛围下静置陈化3天~10天后,旋涂沉积在衬底上得到前驱体薄膜;
(3)将步骤(2)中得到的前驱体薄膜放置在温度为30-70℃的热台上加热1.0min~40min;然后再放在旋涂机上,滴40μL ~100μL补充溶液,该溶液滴上之后旋涂干,补充溶液的成分为碘化锡的异丙醇溶液,浓度为1mg/mL -10mg/mL ;
(4)对步骤(3)中得到的薄膜150~200℃退火处理10 s ~300s,得到Cs2SnI6薄膜。
2.根据权利要求1所述的溶液法制备Cs2SnI6薄膜的方法,其特征在于,步骤(1)中碘化铯与碘化锡的摩尔比为(1~2):(1~2),采用DMSO与DFM的混合溶剂时,DMSO与DFM体积比为1-6:1,前驱体溶液中的Cs2SnI6浓度为0.2mol/L-1.0mol/L。
3.根据权利要求1所述的溶液法制备Cs2SnI6薄膜的方法,其特征在于,步骤(2)中旋涂沉积是采用两步旋涂法,第一阶段转速为1000-1500转/分钟,时间为5-10秒,第二阶段转速为1500-4000转/分钟,时间为30-90秒;在第二阶段旋转开始后20-60秒时,滴上100-500μL反溶剂,反溶剂为异丙醇、氯苯、甲苯、乙醇或乙酸乙酯。
4.权利要求1至3任一所述的制备方法制备得到的Cs2SnI6薄膜。
5.权利要求4所述Cs2SnI6薄膜在光电探测器中的应用,其特征在于,所述Cs2SnI6薄膜作为光电探测器的吸光层使用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河南大学,未经河南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010884356.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择