[发明专利]方法和控制装置在审

专利信息
申请号: 202010885648.7 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN112442666A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 拉尔夫·比德尔曼;伯恩德·泰切特;托马斯·迈耶;托尔斯滕·德萨埃克 申请(专利权)人: 冯·阿登纳资产股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/06;C23C14/08
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 刘明海;胡彬
地址: 德国德*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 方法 控制 装置
【权利要求书】:

1.一种操作过程组(200,700)的方法(100),所述过程组至少执行第一反应涂覆过程和第二反应涂覆过程,所述方法(100)包括:

·通过所述第一反应涂覆过程和通过所述第二反应涂覆过程涂覆(101)基底;

·通过所述第一涂覆过程的第一操纵变量和所述第二涂覆过程的第二操纵变量并使用矫正元素(208)闭环控制(103)所述过程组(200,700);

·其中所述矫正元素(208)将所述第一操纵变量和所述第二操纵变量彼此关联,使得它们的控制值彼此不同。

2.如权利要求1所述的方法(100),其进一步包括:

向所述过程组(200,700)供应气体,其中所述涂覆包括在所述基底上形成包括所述气体的至少一种成分的层。

3.如权利要求2所述的方法(100),

·其中所述第一操纵变量表示供应给所述第一反应涂覆过程的气体的速率;和/或

·其中所述第二操纵变量表示供应给所述第二反应涂覆过程的气体的速率。

4.如权利要求1或2所述的方法(100),其中所述基底的涂覆包括通过所述第一反应涂覆过程在基底上形成第一子层,以及通过所述第二反应涂覆过程在所述第一子层上形成第二子层。

5.如权利要求1或2所述的方法(100),其中所述第一反应涂覆过程和所述第二反应涂覆过程在所述过程组(200,700)的不同真空室中进行。

6.如权利要求1或2所述的方法(100),其中,所述矫正元素(208)将所述第一操纵变量和所述第二操纵变量彼此关联,使得它们具有:

相对于所述闭环控制不变的相互差异,或

相对于所述闭环控制不变的相互比率。

7.如权利要求1或2所述的方法(100),其中所述矫正元素(208)将参考参数与所述第一操纵变量关联,并将所述参考参数与所述第二操纵变量关联。

8.如权利要求1或2所述的方法(100),其中所述矫正元素(208)表示所述第一涂覆过程和所述第二涂覆过程之间的相互作用。

9.如权利要求8所述的方法(100),

其中所述矫正元素(208)具有第一数据张量,所述第一数据张量

·至少具有表示所述第一涂覆过程对所述第二涂覆过程的影响的第一张量分量;并且

·至少具有表示所述第二涂覆过程对所述第一涂覆过程的影响的第二张量分量。

10.如权利要求1所述的方法(100),其中所述矫正元素(208)还考虑从所述第一涂覆过程和/或所述第二涂覆过程中抽出的气流。

11.如权利要求10所述的方法(100),其中,从所述第一涂覆过程或所述第二涂覆过程中通过与相应的涂覆过程直接相邻的泵连接件抽出所述气流。

12.如权利要求10或11所述的方法(100),

其中所述矫正元素(208)具有第二数据张量,所述第二数据张量

·至少具有表示从所述第一涂覆过程中抽出的气流的第一张量分量;并且

·至少具有表示从所述第二涂覆过程中抽出的气流的第二张量分量。

13.如权利要求1或2所述的方法(100),其中,所述矫正元素(208)额外考虑所述第一涂覆过程和/或所述第二涂覆过程的电功率消耗。

14.如权利要求13所述的方法(100),其中所述校正元素(208)具有第三数据张量,所述第三数据张量

·至少具有表示所述第一涂覆过程的功率消耗的第一张量分量;并且

·至少具有表示所述第二涂覆过程的功率消耗的第二张量分量。

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