[发明专利]用于PCB微瑕疵板的覆膜模块有效
申请号: | 202010887231.4 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112020233B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 李钟波 | 申请(专利权)人: | 李钟波 |
主分类号: | H05K3/22 | 分类号: | H05K3/22 |
代理公司: | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人: | 薛纪表 |
地址: | 318020 浙江省台州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 pcb 瑕疵 模块 | ||
本发明公布了一种用于PCB微瑕疵板的覆膜模块,包括送板单元、送膜单元、上膜单元、切膜单元和热压单元,通过送膜单元、上膜单元、切膜单元和热压单元对送板单元上输送的PCB依次进行上膜、切膜和热压操作;送膜单元和上膜单元通过第一传动机构同步联动;上膜单元和送板单元通过第二传动机构同步联动;切膜单元和热压单元通过第一开关联动;切膜单元、热压单元和上膜单元通过第二开关联动。本发明将送板单元作为动力源,依靠第一传动机构、第二传动机构、第一开关和第二开关衔接送膜单元、上膜单元、切膜单元和热压单元,实现湿板上膜、切膜和热压操作,本发明设计合理,能够有效降低膜层厚度,避免出现因膜层过厚导致的曝光走光及显影不净等问题。
技术领域
本发明涉及印刷电路板制造设备技术领域,特别是涉及一种用于PCB微瑕疵板的覆膜模块。
背景技术
PCB,即印制电路板或印刷电路板,是电子元器件电气连接的提供者。对PCB进行图形转移,是PCB制作必不可少的历程。通常的PCB图形转移流程为覆膜→制作菲林底片→曝光→显影→蚀刻,通过在处理后的铜箔面上涂布或压贴一层感光性膜层,包括液态光致抗蚀剂或光致抗蚀剂干膜,在紫外线照射下,将菲林底片上的线路图型转移到铜箔面上,形成一层与菲林底片上的线路图型相同的抗蚀膜层,再将未被抗蚀层图形保护的铜箔蚀刻去除,并褪去抗蚀膜层,得到所需的电路图型。其中,覆膜工序在整个印刷电路板生产流程中非常重要。
正常的PCB板面是平整的,但在图形转移前的制作工序中,因搬运、操作、压合、电镀或钻孔等都可能导致PCB板面形成凹坑凹痕的问题,产生PCB微瑕疵板。采用液态光致抗蚀剂对存在凹坑凹痕的PCB进行覆膜时,由于PCB上的钻孔存在,液态光致抗蚀剂会流入钻孔并覆盖钻孔表层,导致PCB上所有的孔都是PTH孔(金属化孔),无法正常应用于实际生活中;采用光致抗蚀剂干膜对存在凹坑凹痕的PCB进行覆膜时,会导致贴附不牢,显影后出现甩膜,继而导致PCB线路在凹坑凹痕处蚀刻后出现缺口、开路的现象。由于PCB线路细密无法修补,因此PCB在线路出现缺口、开路后基本都会被报废掉,不仅严重影响PCB生产效益,还会造成极大的资源浪费。
因此,现有技术提供了一种板面不平整PCB板的制作方法(专利号为201510469804.0),通过在PCB板均匀涂覆湿膜,将凹坑凹痕填充,再进行烘烤干燥后,利用贴膜机在湿膜上热压一层干膜,将非导通孔掩盖,试图解决上述问题。但是将湿膜涂覆后干燥成型,再覆压干膜,会使得膜层非常厚,致使后续的曝光、显影等操作难度加大,容易出现曝光走光、显影不净以及蚀刻过度等问题。
发明内容
基于此,有必要针对上述问题,提供一种用于PCB微瑕疵板的覆膜模块,在PCB微瑕疵板覆上湿膜后直接在湿膜上贴覆干膜,有效降低膜层厚度。
本发明的实施例通过以下技术方案实现:
一种用于PCB微瑕疵板的覆膜模块,包括送板单元、送膜单元、上膜单元、切膜单元和热压单元,送板单元用于输送PCB,送膜单元、上膜单元、切膜单元和热压单元均设置在送板单元上方,且上膜单元、切膜单元和热压单元沿送板单元的输送方向依次设置,对送板单元上输送的PCB依次进行上膜、切膜和热压操作;
送膜单元包括用于套设干膜卷的送膜辊、用于去掉干膜保护膜的撕膜辊和用于牵引干膜的牵引装置;上膜单元包括下压辊和两个第一弹性组件,下压辊位于送膜辊和牵引装置之间,并位于干膜的上方;两个第一弹性组件分别设置在下压辊的两端,用于向下压辊施加向下的弹性应力,使下压辊的下辊面高度稍低于送板单元上输送的PCB的上表面高度;
送膜辊、撕膜辊和下压辊均为从动辊,下压辊与撕膜辊之间设有第一传动机构,当下压辊抬升时,通过第一传动机构使撕膜辊与下压辊同步转动。
在其中一个实施例中,下压辊与送板单元之间设有第二传动机构,当下压辊抬升时,通过第二传动机构使下压辊与送板单元同步反向转动。
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