[发明专利]一种渐变PET膜的制备方法在审
| 申请号： | 202010900037.5 | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN112048699A | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 毕乃快 | 申请（专利权）人： | 苏州裕信宏塑料包装有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙) 32268 | 代理人： | 金香云 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 渐变 pet 制备 方法 | ||
1.一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；
S2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；
S3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；
S4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；
S5：在光学薄膜层喷涂着色层；
S6：着色层上模压形成镭射效果层。
2.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S1中PET膜上镀上具有折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成。
3.根据权利要求2所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述高折射率材料层和低折射率材料层工设置有3层或5层。
4.根据权利要求3所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述PET膜上镀上具有折射率的材料层的制备方法包括以下步骤：
S11：将PET膜平铺，并将真空镀膜设备的真空腔室的真空压力环境抽至7.5×10-4Pa；
S12：利用真空镀膜设备在PET膜上蒸镀一层高折射率材料层；
S13：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层低折射率材料层；
S14：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层高折射率材料层；
S15：重复步骤S13-S14，直到获得需要的层数。
5.根据权利要求2、3或4所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述高折射率材料层为五氧化三钛材料层，所述低折射率材料层为二氧化硅材料层。
6.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述UV转印纹理层厚度为10-11微米。
7.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S3中采用真空蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层，所述光学薄膜层采用二氧化硅或二氧化钛。
8.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S4中化学腐蚀所用的腐蚀液为包含HF/NH4F的缓冲溶液，腐蚀液的质量浓度为3-4％，所述化学腐蚀的反应的速率为10-13nm/min。
9.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中的着色层的厚度为10-12微米。
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