[发明专利]一种稳定风量风压的设备及其内部设置的压力控制机构

说明书

本发明提供一种稳定风量风压的设备及其内部设置的压力控制机构，通过控制风量和风压达到晶圆表面洁净的目的；包括一种稳定风量风压的设备以及一种压力控制机构；一种稳定风量风压的设备，包括，压力控制机构，风机系统，风道系统，控制系统，机架；压力控制机构设置有多个，多个压力控制机构固定安装在所述机架的上层；每个压力控制机构均与风道系统固定连接；所述风道系统连通所述压力控制机构及风机系统；所述控制系统分别与所述压力控制机构和风机系统电性连接；本发明的有益效果为：代替厂务，为晶圆加工提供充分的换气效率，且比厂务更加精准地控制风压，降低腔室压力波动对工艺的影响。

技术领域

本发明涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种稳定风量风压的设备及其内部设置的压力控制机构。

背景技术

FEC(Fan Exhaust Control)风压控制系统，其工作原理为风机系统提供风量，根据工艺具体需求，通过PID算法和绝对值电机控制压力控制机构，通过改变开合面积从而控制风量及风压。

现有湿法半导体设备在对晶圆进行加工时需要充分的换气效率，来保证晶圆表面的洁净程度；通过控制风量和风压可以达到晶圆表面洁净的目的；目前市面上大多数设备采用的是直连厂务，无法做到精确压力控制。生产过程中机械运动会导致多个腔室压力波动，影响工艺。

发明内容

本发明提供一种稳定风量风压的设备及其内部设置的压力控制机构，通过控制风量和风压达到晶圆表面洁净的目的。

本发明提供一种稳定风量风压的设备及其内部设置的压力控制机构，包括一种稳定风量风压的设备以及一种压力控制机构；

一种稳定风量风压的设备，包括，压力控制机构1，风机系统2，风道系统3，控制系统4，机架5；

压力控制机构1设置有多个，多个压力控制机构1固定安装在所述机架5的上层；每个压力控制机构1均与风道系统3固定连接；所述风道系统3连通所述压力控制机构1及风机系统3；所述风道系统3上部设置有多个压力控制机构连接口31，分别与所述压力控制机构1一一对应；所述风道系统3下部设置有风道基座32与风机系统2固定连接；所述控制系统4分别与所述压力控制机构1和风机系统2电性连接。

优选的，所述压力控制机构1均固定在所述机架5上层的边缘处。

一种压力控制机构，设置在所述稳定风量风压的设备的内部，包括外壳12，设置在底部的风腔和风口112，旋转内芯111及组件，伺服电机16及组件，行星减速机17及其组件；

所述外壳12包裹设置在所述压力控制机构的外部；所述风口112设置在压力控制机构的底部外侧；所述风腔上部设置有旋转内芯111及组件，旋转内芯组件将旋转内芯111固定在机构上；所述行星减速机17及组件固定在旋转内芯111及组件上，行星减速机组件固定行星减速机17；所述伺服电机(26)及组件所述行星减速机17及组件上。

优选的，所述风口112呈方形。

优选的，所述风腔底部与外壳12之间还设置有密封圈11。

优选的，所述旋转内芯组件包括固定在所述旋转内芯111顶部的轴承13；和卡设在所述轴承13外部的轴承座110；以及与旋转内芯111固定连接的联轴器15。

优选的，所述行星减速机组件包括减速机支撑块19和减速机固定板18；所述减速机支撑块19固定连接所述轴承座110和所述减速机固定板18；所述减速机固定板18上固定安装有所述行星减速机17。

优选的，所述伺服电机组件包括定位片14；所述定位片14用于定位伺服电机的位置；所述伺服电机14设置在结构顶部，驱动机构旋转。

本发明的有益效果为：代替厂务，为晶圆加工提供充分的换气效率，且比厂务更加精准地控制风压，降低腔室压力波动对工艺的影响。

附图说明