[发明专利]一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法

权利要求书

1.一种用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：

(1)配制碱液：往调和釜中加入所需去离子水，开启搅拌，然后加入无机碱和有机碱，搅拌至溶解；

(2)待步骤(1)中的碱液澄清透明后，将表面活性剂、增溶剂、螯合剂、抗再沉剂依次按照所需比例加入调和釜中，搅拌，然后加入助溶剂直至混合液清澈透明，再加入消泡剂，搅拌均匀，即得所需清洗剂。

2.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述清洗剂的组分是由以下重量百分比组成：无机碱5-10％，有机碱5-10％，表面活性剂5-10％，助溶剂3-5％，增溶剂1-5％，螯合剂1-5％，抗再沉剂2-5％，消泡剂0.5-1％，余量为去离子水。

3.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾、五水合偏硅酸钠的一种或几种，所述有机碱为二甘醇胺、三乙醇胺、AMP95中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述表面活性剂为非离子表面活性剂，即窄分布聚氧乙烯醚、异构醇聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚中的一种或几种。

5.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述助溶剂为二丙二醇二甲醚、二乙二醇单丁醚、乙二醇中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述的增溶剂为柠檬酸、新癸酸、磺基琥珀酸二辛酯一钠盐、碳8-10烷基糖苷、对甲基苯磺酸钠中的一种或两种。

7.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述的络合剂为氨基三亚甲基膦酸、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、乙二胺四乙酸二钠中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述抗再沉剂为丙烯酸均聚物、丙烯酸/马来酸共聚物、聚乙二醇200、聚乙二醇400、乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸单甘油酯、三硬脂酸甘油酯中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的用于硬脆材料晶片的清洗剂的制备方法，其特征在于，所述消泡剂为聚醚型消泡剂、有机硅型消泡剂、聚醚改性有机硅消泡剂中的一种。

10.一种如权利要求1-9所述用于硬脆材料晶片的清洗剂的使用方法，其特征在于，所述清洗剂以1:10-1:20的比例兑水稀释，稀释后PH值为9-13。