[发明专利]物质合成控制方法、装置及电子设备

权利要求书

1.一种物质合成控制方法，其特征在于，包括：

在将第一目标物质合成为第二目标物质的过程中，获取第一目标时段内，所述第一目标物质的第一实际电阻值，其中，所述第一目标物质为石墨，所述第二目标物质为所述石墨的最终合成物；

获取所述第一目标时段对应的第一标准电阻值；

根据所述第一实际电阻值和所述第一标准电阻值，获得目标功率值；

将第二目标时段内，所述第一目标物质的加热功率调整为所述目标功率值，使所述第二目标时段内，所述第一目标物质的第二实际电阻值与所述第二目标时段对应的第二标准电阻值匹配，以将所述第一目标物质合成为所述第二目标物质，所述第二目标时段位于所述第一目标时段之后。

2.根据权利要求1所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述在将第一目标物质合成为第二目标物质的过程中，获取第一目标时段内，所述第一目标物质的第一实际电阻值，包括：

在将所述第一目标物质合成为所述第二目标物质的过程中，按照第一预设时间间隔，在所述第一目标时段内，获取所述第一目标物质的多个第一合成电阻值；

计算出所述多个第一合成电阻值的均值，作为所述第一实际电阻值。

3.根据权利要求1所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述获取所述第一目标时段对应的第一标准电阻值，包括：

从将第三目标物质合成为良品合成物的过程数据中，确定出所述第一目标时段对应的第三目标时段，其中，所述第三目标物质为生成良品合成物的石墨；

按照第二预设时间间隔，在所述第三目标时段内，获取所述第三目标物质的多个第二合成电阻值；

计算出所述多个第二合成电阻值的均值，作为所述第一标准电阻值。

4.根据权利要求1所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述根据所述第一实际电阻值和所述第一标准电阻值，获得目标功率值，包括：

获取所述第一标准电阻值和所述第一实际电阻值之间的电阻差值；

将所述电阻差值代入预设的功率调整公式，并将所述功率调整公式输出的计算结果作为所述目标功率值。

5.根据权利要求4所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述功率调整公式包括：

W1＝W0+W0*K*(R0-Rf)+Wm

其中，W1为目标功率值，W0为设定功率值，K为修正系数，R0为第一标准电阻值，Rf为第一实际电阻值，Wm为微调功率值。

6.根据权利要求1所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述在将第一目标物质合成为第二目标物质的过程中，获取第一目标时段内，所述第一目标物质的第一实际电阻值之前，所述物质合成控制方法，还包括：

按照预设的合成计划时间，划分出多个功率调整区间，所述多个功率调整区间中，每个功率调整区间包括一个所述第一目标时段和一个所述第二目标时段，相邻的两个功率调整区间中，位置在前的功率调整区间中包括的第二目标时段的时间长度大于位置在后的功率调整区间中包括的第一目标时段的时间长度，且所述位置在前的功率调整区间中包括的第二目标时段与所述位置在后的功率调整区间中包括的第一目标时段重叠。

7.根据权利要求1所述的物质合成控制方法，其特征在于，所述根据所述第一实际电阻值和所述第一标准电阻值，获得目标功率值之前，所述物质合成控制方法，还包括：

计算所述第一标准电阻值和所述第一实际电阻值之间的电阻差值；

若所述电阻差值小于预设差值，则执行所述根据所述第一实际电阻值和所述第一标准电阻值，获得目标功率值的步骤。