[发明专利]面向大尺寸超薄掩膜版的一种高精高效激光抛光方法

权利要求书

1.面向大尺寸超薄掩膜版的一种高精高效激光抛光方法，其特征在于，将高精高效激光抛光技术应用到大尺寸超薄掩膜版的表面光洁度提升，包括如下步骤：

步骤一，选取长宽尺寸大于125×50mm，平均厚度50-180μm超薄因瓦合金掩膜版，采用沿X、Y、Z轴平动且沿Z轴和Y轴旋转的5轴加工平台，加工平台的加工精度为0.0005-0.001mm，所述的加工平台上安装有2-10个温度传感器，识别激光抛光过程中产生的温度信号，同时X、Y、Z平动轴和Z、Y旋转轴上均通过橡胶管安装有冷却液出口，冷却液对抛光过程中的温度进行实时调控；

步骤二，采用波长1065-1068nm、光斑直径850-1200μm并装有三维振镜的纳秒连续激光器，且激光光束为方形均匀分布的平顶光，同时激光光束的入射角与掩膜版始终保持在8-12°；

步骤三，设置N次激光抛光区域，第1次激光抛光完成后进行第2次抛光区域的抛光，以此类推逐次抛光，且掩膜版的表面尺寸为单次激光抛光区域尺寸的整倍数，采用CCD设备实时观测掩膜版的厚度变化和表面工况，同时结合步骤一中的温度传感器和冷却液，进行温度调控，避免出现搭接条纹、褶皱、烧蚀、气孔缺陷；

步骤四，通过步骤一中的5轴加工平台实时调整掩膜版的加工位置，对步骤三中的N个抛光区域进行激光抛光连续性拼接，当掩膜版表面粗糙度≤Ra 0.05μm，表面厚度偏差4-8μm，厚度变化为10-20μm，即完成整个掩膜版的激光抛光。