[发明专利]透明导电性薄膜、透明导电性薄膜的制造方法及中间体在审
申请号: | 202010905488.8 | 申请日: | 2020-09-01 |
公开(公告)号: | CN112447313A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 竹安智宏;延泽秀树 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 导电性 薄膜 制造 方法 中间体 | ||
本发明提供导体层与透明导电层的密合性优异的透明导电性薄膜、该透明导电性薄膜的制造方法、及该透明导电性薄膜的制造方法中使用的中间体。透明导电性薄膜(1)朝向厚度方向一侧依次具备透明基材(2)和导电层(3)。导电层(3)具备视觉辨识区域(10)及配置于视觉辨识区域(10)的外周边缘部的边框区域(11)。视觉辨识区域(10)具备透明导电层(4)。边框区域(11)具备:导体层(5)、透明导电层(4)、及配置于它们之间且用于实现导体层(5)与透明导电层(4)的密合的导电密合层(6)。透明导电层(4)包含金属纳米线。
技术领域
本发明涉及透明导电性薄膜、透明导电性薄膜的制造方法及中间体,详细而言,涉及适合用于光学用途的透明导电性薄膜、该透明导电性薄膜的制造方法、及该透明导电性薄膜的制造方法中使用的中间体。
背景技术
以往以来,使包含金属纳米线的透明导电层形成为期望的电极图案而得到的透明导电性薄膜被用于触摸面板等光学用途中。
作为这样的透明导电性薄膜,提出了下述触摸输入传感器,其具备:透明基板、第1感光性树脂层、包含银纳米线的透明导电膜层、金属薄膜层、和第2感光性树脂层(例如,参照专利文献1。)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2017-27231号公报
发明内容
然而,对于专利文献1的触摸输入传感器,由于金属薄膜层与包含金属纳米线的透明导电层的密合性低,因此存在透明导电层剥离这样的不良情况。
本发明的目的在于,提供导体层与透明导电层的密合性优异的透明导电性薄膜、该透明导电性薄膜的制造方法、及该透明导电性薄膜的制造方法中使用的中间体。
本发明[1]为一种透明导电性薄膜,其朝向厚度方向一侧依次具备透明基材和导电层,前述导电层具备视觉辨识区域及配置于前述视觉辨识区域的外周边缘部的边框区域,前述视觉辨识区域具备透明导电层,前述边框区域具备:导体层、前述透明导电层、及配置于它们之间且用于实现前述导体层与前述透明导电层的密合的导电密合层,前述透明导电层包含金属纳米线。
本发明[2]包含上述[1]所述的透明导电性薄膜,其中,前述边框区域朝向厚度方向一侧依次具备前述导体层、前述导电密合层、和前述透明导电层。
本发明[3]包含上述[1]或[2]所述的透明导电性薄膜,其中,前述导电层配置于前述透明基材的两侧。
本发明[4]包含上述[1]~[3]中任一项所述的透明导电性薄膜,其中,前述金属纳米线为银纳米线。
本发明[5]包含上述[1]~[4]中任一项所述的透明导电性薄膜,其中,前述导体层为铜层。
本发明[6]包含上述[1]~[5]中任一项所述的透明导电性薄膜,其中,前述导电密合层包含选自由铬、镍、硅氧化物及掺铝的锌氧化物组成的组中的1者以上。
本发明[7]包含上述[1]~[6]中任一项所述的透明导电性薄膜,其用于光刻或用于湿蚀刻。
本发明[8]为一种透明导电性薄膜的制造方法,其具备:准备透明基材的第1工序;和将具备视觉辨识区域及配置于前述视觉辨识区域的外周边缘部的边框区域的导电层配置于前述透明基材的第2工序,第2工序中,将透明导电层配置于前述视觉辨识区域,将导体层、透明导电层、和配置于它们之间且用于实现前述导体层与前述透明导电层的密合的导电密合层配置于前述边框区域,前述透明导电层包含金属纳米线。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010905488.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:冷冻装置及冷冻装置的运转方法
- 下一篇:图像形成装置