[发明专利]一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器及其制备方法在审
申请号: | 202010906869.8 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112051316A | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 钟建;刘洁尘;罗潇;刘泽宇;李娜 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G01N27/414 | 分类号: | G01N27/414;H01L51/05;H01L51/40 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 谢建 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 有机 薄膜晶体管 氨气 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器,从下到上依次包括衬底、栅电极、介电层、半导体层、源电极和漏电极,其特征在于,所述介电层由第一介电层和第二介电层组成的双介电层结构,所述第一介电层为机介电材料,所述第二介电层由鸡蛋清为原料制备而成。
2.根据权利要求1所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器,其特征在于,所述第一介电层的有机材料为聚乙烯醇、聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯中的一种或几种,厚度为300-500nm。
3.根据权利要求1所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器,其特征在于,所述第二介电层的制备方法为:将过滤后的鸡蛋清与去离子水按重量比例1:(0-3)进行混合,用混合后的溶液在第一介电层上制备第二介电层,在110-130度进行退火处理,即得第二介电层,厚度为200-400nm。
4.根据权利要求1所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器,其特征在于,所述半导体层由有机半导体材料构成,所述有机半导体材料为酞菁铜、聚3-己基噻吩、Tips-并五苯、含硅氧烷的聚异戊二烯衍生物、PBTTT系列的中一种或几种,厚度为30-70nm。
5.根据权利要求1所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器,其特征在于,所述栅电极、源电极和漏电极的材料均为金属纳米线,所述金属纳米线包括铁纳米线、铜纳米线、银纳米线、金纳米线、铝纳米线、镍纳米线、钴纳米线、锰纳米线、镉纳米线、铟纳米线、锡纳米线、钨纳米线和铂纳米线中的一种或几种。
6.根据权利要求1-5任一项所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:利用洗涤剂、丙酮溶液、去离子水和异丙醇溶液对衬底进行超声清洗,清洗后用氮气吹干;
步骤二:在衬底表面制备栅电极;
步骤三:在所述栅电极上面制备由有机介电材料构成的第一介电层;
步骤四:将鸡蛋清进行过滤,过滤后的鸡蛋清与去离子水按重量比例1:(0-3)进行混合,用混合后的溶液在第一介电层上制备第二介电层,在110-130度进行退火处理,即得第二介电层;
步骤五:在介电层上制备半导体层;
步骤六:在半导体层上制备源电极和漏电极。
7.根据权利要求6所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器的制备方法,其特征在于,在步骤二中,栅电极是通过真空热蒸镀、磁控溅射、等离子体增强的化学气相沉积、丝网印刷、打印或旋涂中的任一种方法制备。
8.根据权利要求6所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器的制备方法,其特征在于,在步骤三中,第一介电层通过旋涂、辊涂、滴膜、压印、印刷或喷涂中的任一种方法制备;在步骤四中,第二介电层通过旋涂方法制备。
9.根据权利要求6所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器的制备方法,其特征在于,在步骤五中,所述半导体层是通过真空热蒸镀、动甩旋涂、辊涂、滴膜、压印、印刷或喷涂中的任一种方法制备。
10.根据权利要求6所述的一种基于有机薄膜晶体管的氨气传感器的制备方法,其特征在于,在步骤六中,源电极、漏电极是通过真空热蒸镀、磁控溅射、等离子体增强的化学气相沉积、丝网印刷、打印或旋涂中的任一种方法制备。
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