[发明专利]一种矩阵式射线成像板制备方法有效

专利信息
申请号: 202010907766.3 申请日: 2020-09-02
公开(公告)号: CN112164702B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 郭素文;郑岩;张瑞君;全丽华;蔡震涛;陈磊 申请(专利权)人: 上海洞舟实业有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/12
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摘要:
搜索关键词: 一种 矩阵 射线 成像 制备 方法
【说明书】:

本发明一种矩阵式射线成像板制备方法;其包括纳米射线探测材料、反光层、吸收剂、树脂粘结剂、保护层;其特征在于将粘结剂与吸收剂、射线探测材料按比例进行密炼、造粒,然后将造粒后的混合物置于模具内,在模具底部加入反光薄膜,利用热压方式将材料热压制备成板材,然后利用丝网印刷、喷涂、刮涂方式在表面制备出保护层,同时在成像板表面制备出矩阵列就得到所需的射线成像板,将矩阵成像板与TFT成像器件配合使用可以实现射线成像。

技术领域

本发明属医疗、工业、安检中射线成像技术领域。

背景技术

现有X光成像已经广泛用于医疗诊断的实时影像、大型安检成像等,现有成像传感器技术产品的结构主要是由:射线荧光板、无机半导体光传感元件、控制配套电路等组成,其中半导体光传感元件主要是非晶硅、非晶硒、CMOS、CCD等,这些的固态半导体器件形成复杂的矩阵感光像素平板,将荧光图像转为电信号,从而形成数字影像生成与存储。现有技术不足是上述无机半导体器件形成阵列具有复杂的工艺结构,不可弯曲,成像面积受到限制、像素较大、成本昂贵,器件体积较大等。中国专利:201016215901、2012103939402、2006100644606、2014103057586,美国专利US9735194、US5093576 揭示了现有技术制备原理与工艺。

本发明一种矩阵式射线成像板制备方法;其包括纳米射线探测材料、反光层、吸收剂、树脂粘结剂、保护层;其特征在于将粘结剂与吸收剂、射线探测材料按比例进行密炼、造粒,然后将造粒后的混合物置于模具内,在模具底部加入反光薄膜,利用热压方式将材料热压制备成板材,然后利用丝网印刷、喷涂、刮涂方式在表面制备出保护层,同时在成像板表面制备出矩阵列就得到所需的射线成像板,将矩阵成像板与TFT成像器件配合使用可以实现射线成像。

本发明可以用于医疗、工业、安检中X光成像技术领域,也可以用于便携式三维立体X光成像,中子成像、质子成像等。

发明内容

本发明一种矩阵式射线成像板制备方法;其包括纳米射线探测材料、反光层、吸收剂、树脂粘结剂、保护层;其特征在于将粘结剂与吸收剂、射线探测材料按比例进行密炼、造粒,然后将造粒后的混合物置于模具内,在模具底部加入反光薄膜,利用热压方式将材料热压制备成板材,然后利用丝网印刷、喷涂、刮涂方式在表面制备出保护层,同时在成像板表面制备出矩阵列就得到所需的射线成像板,将矩阵成像板与TFT成像器件配合使用可以实现射线成像。

本发明中纳米射线探测材料为ZnS;Ag、BaFCl;Eu、BaCl2、GOS;Tb、GOS;Pr、中的一种或多种;其颗粒尺寸分布范围为100-300nm。本发明中的反光层由PET基板和扩散剂组成的背光反射膜,扩散剂为PMMA微球、PC微球、PS微球、 PET微球中的一种或多种,其粒度分布为100-300nm;置于成像板的背面,降低光的闪射,提高成像效率。

本发明的吸收剂为6LiF、6LiCl、6Li2CO3152Gd2O3152GdF3中的一种或多种;通过在射线探测材料中添加吸收剂可以将射线吸收转化,提高安全性;树脂粘结剂为环氧树脂、聚苯胺、尼龙、纤维素、TPU、PVDF中的一种或多种;保护层为UV油墨、聚丙烯酰胺油墨、氟硅树脂油墨中的一种或多种,在成像板表面起到防潮、抗刮的作用。

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