[发明专利]一种基于井下烃类检测的井底压力控制方法在审

专利信息
申请号: 202010911724.7 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN112112626A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 李枝林;梁玉林;杨玻;陆灯云;白璟;邓虎;杨晓峰;高如军;李赛;唐国军;左星;聂捷;李照;江迎军;蒋林 申请(专利权)人: 中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团川庆钻探工程有限公司
主分类号: E21B47/00 分类号: E21B47/00;E21B49/00;E21B47/10;E21B21/08;G06F30/20
代理公司: 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 代理人: 任洁;谭昌驰
地址: 100007 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 井下 检测 井底 压力 控制 方法
【说明书】:

发明提供了一种基于井下烃类检测的井底压力控制方法。所述方法包括:通过井下烃类检测工具在钻井过程中实时监测井底是否存在地层烃类物质侵入井筒,同时监测是否出现井下漏失,当出现地层烃类物质侵入井筒时,调整井底压力,直至监测不到有地层烃类物质进入井筒,当出现井下漏失时,则调整井底压力,直到监测不到井下漏失,直至监测到井筒内出现:既没有地层烃类物质进入,且又没有发生井漏,保持井底压力不变。本发明的有益效果包括:在保证地层烃类物质的情况下还能够保证井不漏,实现井底压力精细控制。

技术领域

本发明涉及油气井钻井井筒压力控制领域,具体地,涉及一种基于井下 烃类检测的井底压力控制方法。

背景技术

目前,深井钻井领域的主要工程风险集中在井控风险,而井控风险的实 质是控制井底压力大于地层孔隙压力,避免地层流体大量进入井筒。传统钻 井技术的井底压力控制极为粗超,误差在5-10MPa。而目前深井超深井钻完 井面临窄安全密度窗口问题,较大的井底压力波动极易造成井下溢流和井漏, 从而出现井控风险,降低生产作业时效。目前国内外通用的方法是在井下安 装井下压力监测装置(PWD),但该工具的安全位置并不在井底,且受传感 器压力校准精度的影响,井下压力真实值监测精度误差也偏大(2-3MPa), 具备一定的参考价值但受工具稳定性和价格影响推广范围较小,且该工具推 广应用相对较少。

发明内容

针对现有技术中存在的不足,本发明的目的在于解决上述现有技术中存 在的一个或多个问题。例如,本发明的目的之一在于提供一种基于井下烃类 检测的井底压力控制方法。

为了实现上述目的,本发明提供了一种基于井下烃类检测的井底压力控 制方法。所述方法可包括以下步骤:通过井下烃类检测工具在钻井过程中实 时监测井底是否存在地层烃类物质侵入井筒,若监测不到存在地层烃类物质, 监测井下漏失,若监测不到井下漏失,则保持井底压力不变,若监测到井下 漏失,则调整井底压力,直到监测不到井下漏失,此时,执行监测井底是否 存在地层烃类物质侵入井筒的步骤,直至井筒内既没有地层烃类物质进入又 不发生井漏,保持井底压力不变;若监测到存在地层烃类物质,调整井底压 力,直至监测不到有地层烃类物质进入井筒,监测井下漏失,若监测不到井 下漏失,则保持井底压力不变,若监测到井下漏失,则调整井底压力,直到 监测不到井下漏失,此时,执行监测井底是否存在地层烃类物质侵入井筒的 步骤,直至井筒内既没有地层烃类物质进入又不发生井漏,保持井底压力不 变。

在本发明的一个示例性实施例中,所述若监测到井下漏失,则调整井底 压力可包括:

以0.5~2Mpa/s的降压速度降低井口套压,从而降低井底压力,对每次 降低井底压力后的井筒进行漏失检测,直到监测不到漏失。

在本发明的一个示例性实施例中,所述调整井底压力,直至监测不到有 地层烃类物质进入井筒可包括:

对井底压力进行测量得到测量值P1

改变井底压力至井底压力大于地层压力,井筒内监测不到烃类物质,对 井底压力进行测量得到测量值P2

继续调整井底压力至P3,其中,P1<P3<P2,检测井筒内烃类物质的浓 度是否大于0且不大于a%,a表示数字且0<a<100,无具体含义,若是, 则P3为地层压力,随之调节井底压力至Px,1≤Px-P3≤3,若否,监测井筒内 是否存在烃类物质,

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团川庆钻探工程有限公司,未经中国石油天然气集团有限公司;中国石油集团川庆钻探工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010911724.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top