[发明专利]直写曝光机有效

专利信息
申请号: 202010912037.7 申请日: 2020-09-02
公开(公告)号: CN112130422B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 项宗齐 申请(专利权)人: 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/22;H05K3/06
代理公司: 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 代理人: 曹雪荣
地址: 230088 安徽省合肥市高新区*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 曝光
【说明书】:

发明公开了一种直写曝光机,所述直写曝光机包括:吸附平台系统;运动平台系统,所述运动平台安装于吸附平台系统;对准系统,所述对准系统安装于所述运动平台系统;电控系统,所述电控系统安装于所述运动平台系统,所述电控系统和所述对准系统电连接;曝光系统,所述曝光系统安装于所述运动平台系统,所述曝光系统和所述电控系统电连接,所述曝光系统包括多个曝光单元,相邻曝光单元之间的间距小于每个曝光单元的宽度。根据本发明实施例的直写曝光机能够一次扫描成型,具有生产效率高、产品质量好等优点。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域,尤其是涉及一种直写曝光机。

背景技术

曝光机是半导体及电路板(PCB)生产领域的关键设备,其中,直写曝光机相对于传统曝光机,节省了制作菲林底片或光罩的工序,具有产能高、对位精度高等优点,但是相关技术中的直写曝光机,对板面面积较大的电路板需要进行多次扫描成型,这样效率较低且产品质量较差。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种直写曝光机,该直写曝光机能够一次扫描成型,具有生产效率高、产品质量好等优点。

为了实现上述目的,根据本发明实施例提出一种直写曝光机,所述直写曝光机包括:吸附平台系统;运动平台系统,所述运动平台安装于吸附平台系统;对准系统,所述对准系统安装于所述运动平台系统;电控系统,所述电控系统安装于所述运动平台系统,所述电控系统和吸附平台系统、运动平台系统以及所述对准系统电连接;曝光系统,所述曝光系统安装于所述运动平台系统,所述曝光系统和所述电控系统电连接,所述曝光系统包括多个曝光单元,相邻曝光单元之间的间距小于每个曝光单元的宽度。

根据本发明实施例的直写曝光机能够一次扫描成型,具有生产效率高、产品质量好等优点。

根据本发明的一些具体实施例,每个曝光单元的宽度与相邻曝光单元之间的间距之间的差值为0.5~1mm。

根据本发明的一些具体实施例,每个所述曝光单元包括:照明系统;成像系统,所述照明系统的轴向与所述成像系统的轴向平行;数据微镜转换系统,所述数据微镜转换系统分别与所述照明系统和所述成像系统固定。

根据本发明的一些具体实施例,所述吸附平台系统的长度大于等于1000mm且宽度大于等于1000mm。

根据本发明的一些具体实施例,所述吸附系统包括:基体,所述基体的朝向所述曝光系统的一面设有开槽:托板,所述托板设于所述基体的设有所述开槽的一面,所述托板设有贯通孔,所述贯通孔与所述开槽连通,所述托板的长度大于等于1000mm且宽度大于等于1000mm;真空泵,所述真空泵与所述开槽连通。

根据本发明的一些具体实施例,所述基体为花岗岩件。

根据本发明的一些具体实施例,所述对准系统包括对准装置,所述对准装置包括电荷耦合器件、成像光机系统和环形照明系统,所述成像光机系统的一端连接所述电荷耦合器件,所述成像光机系统的另一端连接所述环形照明系统;其中,所述电荷耦合器件的中心轴线、所述成像光机系统的中心轴线和所述环形照明系统的中心轴线相互重合。

根据本发明的一些具体实施例,所述运动平台系统:横梁,所述曝光系统安装于所述横梁;横梁运动平台,所述横梁运动平台与所述横梁相连,且驱动所述横梁沿所述吸附平台系统的高度方向移动;龙门运动平台,所述龙门运动平台安装于所述吸附平台系统,所述横梁运动平台安装于所述龙门运动平台,所述龙门运动平台驱动所述横梁沿所述吸附平台系统的长度方向移动。

根据本发明的一些具体实施例,多个所述曝光单元沿所述横梁的长度方向间隔设置。

根据本发明的一些具体实施例,所述对准系统还包括对准运动平台,所述对准装置为多个,多个对准装置安装于所述横梁,所述对准运动平台驱动至少一个所述对准装置可相对于所述横梁移动。

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